[发明专利]视差屏障的制造方法及光掩模的制造方法无效

专利信息
申请号: 201010502391.9 申请日: 2010-09-29
公开(公告)号: CN102033323A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 中谷英司 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B27/22 分类号: G02B27/22;G03F7/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 陈海红;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 视差 屏障 制造 方法 光掩模
【权利要求书】:

1.一种视差屏障的制造方法,该视差屏障具有遮挡光的遮光部及使光通过的开口部,通过上述遮光部及上述开口部分离由具有排列成矩阵状的多个像素的显示单元所显示的右眼用图像及左眼用图像,该制造方法的特征在于,包括:

在具有透光性的透光性基板上形成遮挡光的遮光层的遮光层形成工序;

沿第1形成方向及与上述第1形成方向正交的第2形成方向,以使得上述遮光部及上述开口部交互排列的方式,去除上述遮光层的一部分而形成大致矩形状的多个上述开口部的图形形成工序;以及

沿相对于上述第1形成方向按预定的角度倾斜的第1切取方向及相对于上述第2形成方向按上述角度倾斜的第2切取方向,切取上述透光性基板的切取工序,

在上述图形形成工序中,

将沿上述第1形成方向排列的多个上述开口部,以比基于上述显示单元中的行方向的像素间距所规定的上述视差屏障的上述行方向的理想开口间距小的均等间距形成,并且形成为,以仿照上述第1切取方向的方式,在上述第2形成方向上错开而按台阶状排列。

2.如权利要求1所述的视差屏障的制造方法,其特征在于,

在上述图形形成工序中,

使沿上述第1形成方向的上述开口部的边缘部分,以仿照上述第1切取方向的方式在上述第2形成方向上错开而形成为台阶状,

使沿上述第2形成方向的上述开口部的边缘部分,以仿照上述第2切取方向的方式在上述第1形成方向上错开而形成为台阶状。

3.一种光掩模的制造方法,上述光掩模在分离由具有排列成矩阵状的多个像素的显示单元所显示的右眼用图像及左眼用图像的视差屏障的制造中使用,具有遮挡光的遮光部及使光通过的开口部,用于通过光刻法在上述视差屏障形成上述遮光部及上述开口部的排列图形,

上述制造方法的特征在于,包括:

在具有透光性的透光性基板上形成遮挡光的遮光层的遮光层形成工序;

沿第1形成方向及与上述第1形成方向正交的第2形成方向,以使得上述遮光部及上述开口部交互排列的方式,去除上述遮光层的一部分而形成大致矩形状的多个上述开口部的图形形成工序;以及

沿相对于上述第1形成方向按预定的角度倾斜的第1切取方向及相对于上述第2形成方向按上述角度倾斜的第2切取方向,切取上述透光性基板的切取工序,

在上述图形形成工序中,

将沿上述第1形成方向排列的多个上述遮光部,以比基于上述显示单元中的行方向的像素间距所规定的上述视差屏障的上述行方向的理想开口间距小的均等间距形成,并且形成为,以仿照上述第1切取方向的方式,在上述第2形成方向上错开而按台阶状排列。

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