[发明专利]基片自动上载装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种基片上载装置，尤其涉及一种上载基片过程中洁净、安全、可靠的基片上载装置。

背景技术

玻璃基材等薄板已广泛用于制造LCD-TFT显示屏、有机发光显示器件(OLED)面板、薄膜太阳能面板应用及其他类似者。于此类应用中大多在洁净玻璃上镀覆薄膜晶体管，这类大型玻璃基材的制程通常包含实施多个连续步骤，包括如化学气相沉积制程(CVD)、物理气相沉积制程(PVD)、有机物质蒸镀、磁控溅射沉积或蚀刻制程。用于处理玻璃基材的系统可包括一或多个制程处理室，以进行前述所述制程。目前趋势面板加工朝向大面积基材尺寸发展，以使基材上可形成更多显示器、或制造更大型的显示器以及更大型的太阳能面板。

由于此类制程的工艺要求比较严格，即必须在真空状态下以及完全洁净的空间环境中进行，如有机发光二极管的蒸镀制程，其沉积物为呈蒸汽状的有机物质，如有空气、水汽等存在的话极易与有机蒸镀材料发生反应进而改变基材上的沉积物成分，影响其发光效应；再如，磁控溅射沉积制程过程中，等离子体辉光放电后相互撞击空间内惰性气体使离子化程度达到雪崩状态，从而大面积、大范围的撞击金属靶材，金属原子或/和原子团脱离靶材在磁力引导下沉积到基底上，然此过程如密封不好、真空环境不足将严重影响辉光放电的程度，同时空气中的氧气和水汽也会将靶材侵蚀，导致磁控溅射制程中断或/和沉积薄膜受到影响；类此种种玻璃等基材的镀膜、覆膜制程，都必须要保证整个制程的真空系统的绝对可靠性。这样，在此类制程中，在真空环境下完成基片上载就凸显了重要意义。

传统的基片上载装置包括真空腔体和位于真空腔体内的基片载台和机械手，在真空环境下通过机械手将输入至基片载台的基片传输至相关的制程处理室内，然而这种基片上载装置具有以下缺陷：一方面，基片载台不能在水平方向移动，需要靠真空腔体外部的传动机构将基片通过输入口输送至真空腔体内的基片载台上，将上述传动机构退出真空腔体，关闭输入口的闸门，然后开始基片上载操作，在此过程中需要外部的传动机构进入真空腔体中，影响真空腔体内的洁净度和真空腔体的气密性；另一方面，通过机械手传输基片时，机械手只能抓住基片的一端，在传输过程中基片往往会出现抖动倾斜等问题，使得传输过程不稳定，影响基片上载的安全性。

因此，急需一种保证基片上载的整个过程中腔体内一直维持在稳定的真空状态下，且安全、洁净、可靠的基片上载装置。

发明内容

本发明的目的是提供一种上载过程维持在真空状态下，且安全、洁净、可靠的基片自动上载装置。

为了实现上有目的，本发明公开了一种基片自动上载装置，用于真空环境下上载基片，该基片自动上载装置包括真空腔体、夹持机构，及位于所述真空腔体内的夹持输送机构、夹持升降机构、基片输送机构、基片升降机构和基片对位机构，所述夹持机构用于夹持基片，所述夹持输送机构带动所述夹持机构沿水平方向输入输出所述真空腔体，所述夹持升降机构驱动所述夹持机构做升降运动，所述基片输送机构带动所述基片沿水平方向输入所述真空腔体，所述基片升降机构位于所述基片下方并驱动所述基片做升降运动，所述基片对位机构调整所述基片在水平方向上的位置。

较佳地，所述夹持机构包括夹持板、夹持驱动机构和顶轮机构，所述夹持板上安装有若干夹子，所述夹持驱动装置驱动所述顶轮机构做升降运动，所述顶轮机构触压所述夹子的顶部并控制所述夹子打开或者关闭。

具体地，所述夹持输送机构包括夹持轨道、电机和齿轮，所述电机与所述齿轮的转动轴相连并带动所述齿轮转动，所述夹持板的侧壁上具有齿条，所述齿轮与所述齿轮相啮合并带动所述夹持板在所述夹持轨道上移动。

更具体地，所述夹持板与所述夹持轨道相接触的部位安装有滚轮，所述夹持板通过滚轮在所述夹持轨道上移动，避免夹持板在夹持轨道上移动产生的机械损耗，增加夹持板的使用寿命。

较佳地，所述基片输送机构包括输送部和驱动部，所述输送部包括若干导轨和轴套，所述导轨两两相对且并行排列在所述真空腔体内，所述轴套呈台阶状并安装在所述导轨内端，所述驱动部包括蜗杆和蜗轮，所述蜗杆与所述蜗轮相连并带动所述蜗轮转动，所述蜗轮固定在所述导轨的外端并带动所述导轨转动，所述轴套承载所述基片并带动所述基片输入至所述真空腔体。通过导轨类输送机构来输送基片，使得基片的中部悬空地承载在输送部上，易于基片升降机构带动基片上升。

具体地，所述轴套外包裹有橡胶层。橡胶层有效地避免了基片在输送过程中的损坏。