[发明专利]纳米结构的后沉积包封:组合物、器件及包含它们的系统有效

专利信息
申请号: 201010503565.3 申请日: 2005-06-07
公开(公告)号: CN102054527A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: J·A·怀特佛德;R·部鲁尔;M·布勒堤;陈建;K·C·克鲁登;段镶锋;W·P·弗里曼;D·希尔德;F·利昂;刘超;A·麦瑟;K·S·闵;J·W·帕斯;E·西尔 申请(专利权)人: 奈米系统股份有限公司
主分类号: G11C13/00 分类号: G11C13/00;C09D1/00;B82B1/00;B82Y10/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 朱黎明
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 纳米 结构 沉积 组合 器件 包含 它们 系统
【权利要求书】:

1.电荷存储器或存储器,包含许多含金属核和Si2O壳的离散纳米结构,其中,单元纳米结构和其壳一起的直径小于或等于50纳米,单元纳米结构排列成单层阵列,其存在的密度大于1×1012/厘米2

2.如权利要求1所述的电荷存储器或者存储器,其特征在于,单元纳米结构和其壳一起的直径小于或等于20纳米。

3.如权利要求1所述的电荷存储器或者存储器,其特征在于,单元纳米结构和其壳一起的直径小于或等于10纳米。

4.如权利要求1所述的电荷存储器或者存储器,其特征在于,金属核是钯、铂、铱、金、银、镍、铁、锡、锌、钛或钴芯。

5.离散的涂覆纳米结构,它包含:

具有第一涂层的单个纳米结构;第一涂层包含硅倍半氧烷和一个或多个与该纳米结构结合的胺部分,每一个胺部分各自与硅倍半氧烷连接。

6.许多如权利要求5所述的涂覆纳米结构,纳米结构在基材表面的存在密度大于1×1012/厘米2

7.如权利要求5所述的涂覆纳米结构,其特征在于,第一涂层包封所述纳米结构。

8.如权利要求5所述的涂覆纳米结构,其特征在于,所述纳米结构是金属纳米结构。

9.如权利要求5所述的涂覆纳米结构,其特征在于,每个胺部分各自独立地与硅倍半氧烷相连。

10.含涂覆纳米结构的组合物,它包含:

许多纳米结构;和

将每个单元纳米结构隔分的涂层,其中,所述涂层包含硅,所述涂层包含许多与单个单元纳米结构表面相连的胺部分;

其中,在沉积涂层并将所述部分与单元纳米结构表面结合以后,所述涂层可转变为氧化硅壳。

11.如权利要求10所述的涂覆纳米结构,其特征在于,所述涂层包含硅倍半氧烷。

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