[发明专利]薄片类介质纠偏机构和具有该机构的介质处理设备

权利要求书

1.一种薄片类介质纠偏机构，其特征在于，.包括：

纠偏辊组件，包括第一驱动辊和与所述第一驱动辊配合的压纸机构，其中，所述薄片类介质可偏转地位于所述第一驱动辊和所述压纸机构之间；

调节辊组件，沿介质输送方向位于所述纠偏辊组件的下游，包括第二驱动辊和与所述第二驱动辊相切设置的从动辊；

传感器，用于检测所述介质通道中的介质；以及

控制机构，用于控制所述第一驱动辊的转动和在所述传感器检测到所述介质时延时启动所述第二驱动辊转动。

2.根据权利要求1所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述压纸机构包括沿所述第一驱动辊轴线方向排列的至少一滚珠组件，所述滚珠组件包括与所述第一驱动辊相切设置的自由滚动的滚珠和滚珠保持件。

3.根据权利要求2所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述滚珠保持件包括容纳所述滚珠的桶体和位于所述桶体中将所述滚珠向外偏压的弹性元件，其中，所述桶体的开口直径小于所述滚珠的外径。

4.根据权利要求1所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，还包括位于所述纠偏辊组件和所述调节辊之间的介质通道上支撑所述介质的过渡组件。

5.根据权利要求4所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述过渡组件包括支撑所述介质的可自由转动的滚珠。

6.根据权利要求1所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述第一驱动辊与所述介质输送方向垂直布置或倾斜相交布置。

7.根据权利要求2所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述纠偏辊组件包括两个滚珠组件。

8.根据权利要求1所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述传感器沿所述介质输送方向位于所述介质通道的所述纠偏辊组件的上游。

9.根据权利要求1所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述传感器位于所述介质通道的所述纠偏辊组件和所述调节辊组件之间。

10.一种介质处理设备，其特征在于，具有根据权利要求1至9中任一项所述的薄片类介质纠偏机构。