[发明专利]三维图像显示设备、制造三维图像显示设备的方法和用于制造三维图像显示设备的装置有效
申请号: | 201010505297.9 | 申请日: | 2008-09-05 |
公开(公告)号: | CN101963705A | 公开(公告)日: | 2011-02-02 |
发明(设计)人: | 宫崎健太郎;宫内孝;守田健 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G02B27/22 | 分类号: | G02B27/22;B32B37/10;G02F1/1335 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张平;刘炳胜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 三维 图像 显示 设备 制造 方法 用于 装置 | ||
本申请是申请日为2008年9月5日、申请号为200810173732.5、发明名称为“三维图像显示设备、制造三维图像显示设备的方法和用于制造三维图像显示设备的装置”的专利申请的分案申请。
相关申请的交叉参考
该申请基于并要求2007年9月5日提交的2007-230394号、2008年2月26日提交的2008-044999号、2008年3月18日提交的2008-069839号以及2008年7月10日提交的2008-180636号日本专利申请的优先权的权益;于此通过引用并入其全部内容。
技术领域
本发明涉及三维图像显示设备、制造该三维图像显示设备的方法、以及用于制造该三维图像显示设备的装置。
背景技术
作为用于三维图像显示设备的显示面板,通常使用平板显示设备,例如通过利用液晶的取向来控制光强度的液晶显示面板(LCD)、通过使用等离子放电的紫外线来引起荧光体发光的等离子显示面板(PDP)、通过使用场发射电子发射器的电子束来引起荧光体发光的场发射显示面板(FED)、以及通过使用表面导电电子发射器的电子束来引起荧光体发光的场发射显示面板。
对于三维图像显示设备的三维图像显示系统,存在各种各样的系统,例如多视角或者集成图像系统。作为显示使用三维图像显示设备系统的三维图像的三维图像显示设备,包括双凸透镜的三维图像显示设备已经得到发展。如果使用双凸透镜,为了观看三维图像,无需使用玻璃等就能观看到三维图像。
通常,当在显示面板上设置双凸透镜时,使用以矩形框形状施加于显示面板上的粘合剂将具有该双凸透镜的透镜板粘结至显示面板上。注意,为提高光利用效率的目的,已经提出在液晶显示面板上设置双凸透镜的技术(例如见JP-B 3708112号)。
然而,当双凸透镜设置在显示面板上时,很难在显示面板和双凸透镜之间获得完全粘合,并且因此在其间可形成间隙(间隔距离)。如果间隙没有落入可接受的范围内(例如,期望值加或减数十μm的范围),视角误差也将落入可接受范围之外。因此,降低了三维图像的显示质量。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种防止三维图像的显示质量下降的三维图像显示设备、制造三维图像显示设备的方法、以及制造三维图像显示设备的装置。
本发明的第一方面提供了一种三维图像显示设备,包括:配置为显示图像的显示面板;以及透镜板,其是具有双凸透镜的板材料,并且设置于所述显示面板,在所述显示面板和所述透镜板之间插有框形粘合元件,所述双凸透镜面对所述显示面板,其中,由所述显示面板、所述粘合元件和所述透镜板形成气密的内空间,并且所述内空间的内部压力低于大气压。
本发明的第二方面提供了一种制造三维图像显示设备的方法,包括:利用插于具有双凸透镜的透镜板和配置为显示图像的显示面板之间的部分间断的框形粘合元件将所述具有双凸透镜的透镜板粘结至所述配置为显示图像的显示面板,并使所述双凸透镜面对所述显示面板;以及将由所述显示面板、所述粘合元件和所述透镜板形成的气密的内空间减压,并密封与所述内空间连通的开口部分。
本发明的第三方面提供了一种制造三维图像显示设备的方法,包括:在减压的环境中利用插于具有双凸透镜的透镜板和配置为显示图像的显示面板之间的连续的框形粘合元件将所述具有双凸透镜的透镜板粘结至所述配置为显示图像的显示面板,并使所述双凸透镜面对所述显示面板。
本发明的第四方面提供了一种制造三维图像显示设备的方法,包括:利用插于具有双凸透镜的透镜板和配置为显示图像的显示面板之间的部分间断的框形粘合元件将所述具有双凸透镜的透镜板粘结至所述配置为显示图像的显示面板,并使所述双凸透镜面对所述显示面板;以及加热由所述显示面板、所述粘合元件和所述透镜板形成的气密的内空间,并密封与所述内空间连通的开口部分。
本发明的第五方面提供了一种制造三维图像显示设备的方法,包括:在具有双凸透镜的透镜板和用于显示图像的显示面板之间填充吸气剂的同时,利用连续的框形粘合元件将所述具有双凸透镜的透镜板粘结至所述配置为显示图像的显示面板,并使所述双凸透镜面对所述显示面板;以及加热并激活所述吸气剂。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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