[发明专利]工件台垂向位置测量系统无效
申请号: | 201010508118.7 | 申请日: | 2010-10-15 |
公开(公告)号: | CN102445854A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 林彬 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工件 位置 测量 系统 | ||
1.一种工件台的垂向位置测量系统,其特征在于,包括:
第一角反射镜和第二角反射镜,分别安装在所述工件台的x向的两侧,所述第一角反射镜和第二角反射镜包括两片反射镜片,所述两片反射镜片连接成直角;
第一光束产生/探测装置,对应于所述第一角反射镜的位置,用以产生光束至所述第一角反射镜,并且探测由所述第一角反射镜所反射的光束;
第二光束产生/探测装置,对应于所述第二角反射镜的位置,用以产生光束至所述第二角反射镜,并且探测由所述第二角反射镜所反射的光束,所述第一光束产生/探测装置和第二光束产生/探测装置安装在所述工件台的基准位置上,不随该工件台移动。
2.根据权利要求1所述的工件台的垂向位置测量系统,其特征在于,根据公式
可以得到所述工件台的z向位置,其中k为所述工件台的x向宽度,(x0,y0)为所述工件台的当前位置,z1、z2分别为所述第一光束产生/探测装置和所述第二光束产生/探测装置测得的所述工件台的z向位置。
3.根据权利要求1所述的工件台的垂向位置测量系统,其特征在于,根据公式
得到所述工件台y向的倾斜程度Ry。
4.根据权利要求1所述的工件台的垂向位置测量系统,其特征在于,所述角反射镜的宽度与所述工件台在x向的宽度相同。
5.根据权利要求1所述的工件台的垂向位置测量系统,其特征在于,所述工件台为光刻机中用于承载硅片或掩模的工件台。
6.根据权利要求1所述的工件台的垂向位置测量系统,其特征在于,还包括:
第三光束产生/探测装置,与所述第二光束产生/探测装置位于所述工件台的同一侧,用以产生光束至所述第二角反射镜,并且探测由所述第二角反射镜所反射的光束;
根据公式
得到所述工件台x向的倾斜程度Rx,其中z2、z3分别为所述第二光束产生/探测装置和所述第三光束产生/探测装置测得的所述工件台的z向位置,d为所述第二光束产生/探测装置和所述第三光束产生/探测装置之间的距离。
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