[发明专利]浸没曝光设备以及浸没曝光方法

权利要求书

1.一种以光束曝光基板的浸没曝光设备，包括：

光学组件，所述光束透过所述光学组件照射到所述基板上；

基板座，所述基板座支撑所述基板并且可相对所述光学组件移动；以及

垫板组件，所述垫板组件可相对所述基板座移动，

其中所述基板座和所述垫板组件在从第一状态转变到第二状态的期间一起移动，所述第一状态是指浸没流体维持在所述光学组件和所述基板座之间的空间中，所述第二状态是指所述浸没流体维持在所述光学组件和所述垫板组件之间的空间中，所述光学组件在转变期间保持与所述浸没流体接触。

2.如权利要求1所述的浸没曝光设备，其中所述基板座和所述垫板组件以彼此相当接近的配置状态进行移动，致使所述浸没流体实质上维持在直接位于所述光学组件下方的空间中。

3.如权利要求2所述的浸没曝光设备，其中所述基板座和所述垫板组件实质上同时移动。

4.如权利要求2所述的浸没曝光设备，其中当保持所述第一状态时，所述基板和所述垫板组件朝向彼此相对地移动，致使所述基板座和所述垫板组件彼此相当接近地配置。

5.如权利要求1所述的浸没曝光设备，其中所述垫板组件代替所述基板座而与所述光学组件相向地定位，以当所述基板座远离所述光学组件下方移动时，实质上维持所述浸没流体在所述光学组件下方的空间中。

6.如权利要求1所述的浸没曝光设备，其中在所述基板座远离所述光学组件下方移动之前，所述基板座和所述垫板组件相对地倾斜及/或在垂直方向移动。

7.如权利要求1所述的浸没曝光设备，其中所述垫板组件包括与所述基板座不同的载台。

8.如权利要求1所述的浸没曝光设备，其中在由所述基板座支撑的所述基板的曝光期间，所述垫板组件远离所述光学组件下方地定位。

9.如权利要求1所述的浸没曝光设备，其中在所述转变期间，所述基板座和所述垫板组件形成实质上连续的表面。

10.如权利要求1所述的浸没曝光设备，进一步包括：基板更换系统，所述基板更换系统配置成在所述第二状态中更换处在所述基板座上的基板。

11.如权利要求10所述的浸没曝光设备，进一步包括：准直系统，所述准直系统配置成执行由更换而支撑在所述基板座上的基板的准直。

12.一种以光束曝光基板的浸没曝光设备，包括：

光学组件，所述光束透过所述光学组件照射到所述基板上；

第一载台，所述第一载台支撑所述基板并且可相对所述光学组件移动；以及

第二载台，所述第二载台可相对所述第一载台移动，

其中所述第一载台和所述第二载台在从第一状态转变到第二状态的期间一起移动，所述第一状态是指浸没流体维持在所述光学组件和所述第一载台与所述第二载台中的一个载台之间的空间中，所述第二状态是指所述浸没流体维持在所述光学组件和所述第一载台与所述第二载台中的另一个载台之间的空间中，所述光学组件在转变期间保持与所述浸没流体接触。

13.如权利要求12所述的浸没曝光设备，其中所述第一载台和所述第二载台以彼此相当接近的配置状态进行移动，致使所述浸没流体实质上维持在直接位于所述光学组件下方的空间中。

14.如权利要求13所述的浸没曝光设备，其中所述第一载台和所述第二载台实质上同时移动。

15.如权利要求13所述的浸没曝光设备，其中当保持所述第一状态时，所述第一载台和所述第二载台朝向彼此地相对移动，致使所述第一载台和所述第二载台彼此相当接近地配置。

16.如权利要求12所述的浸没曝光设备，其中所述第二载台代替所述第一载台而与所述光学组件相向地定位，以当所述第一载台远离所述光学组件下方地移动时，实质上维持所述浸没流体在所述光学组件下方的空间中。

17.如权利要求12所述的浸没曝光设备，其中在所述第一载台远离所述光学组件下方地移动之前，所述第一载台和所述第二载台相对地倾斜及/或在垂直方向移动。

18.如权利要求12所述的浸没曝光设备，其中在由所述第一载台支撑的所述基板的曝光期间，所述第二载台远离所述光学组件下方地定位。