[发明专利]表面处理器具

权利要求书

1.一种立式表面处理器具，包括：

主体；

支架，可相对于主体在支撑位置和收回位置之间枢转；和

支架保持机构，用于可释放地把支架保持在支撑位置，该支架保持机构包括：

支架锁定构件，可绕第一轴线枢转地运动以在支架被从支撑位置移动到收回位置时释放支架，且可绕与第一轴线间隔开的第二轴线枢转地运动以在支架被返回至支撑位置时保持该支架；和

偏压装置，用于施加第一力至锁定构件，该第一力抵抗锁定构件绕第一轴线的运动，和施加比第一力小的第二力至锁定构件，该第二力抵抗锁定构件绕第二轴线的运动。

2.如权利要求1所述的器件，其中，第一轴线位于锁定构件的第一端处或附近。

3.如权利要求2所述的器具，其中，第二轴线位于锁定构件的第二端处或附近。

4.如前述权利要求任一项所述的器件，其中，偏压装置施加所述力至锁定构件的一端。

5.如权利要求1至3任一项所述的器件，其中，偏压装置包括螺旋压缩弹簧。

6.如权利要求1至3任一项所述的器具，其中，偏压装置被设置为在锁定构件绕第一轴线枢转时压缩以施加所述第一力至锁定构件。

7.如权利要求1至3任一项所述的器具，其中，偏压装置被设置为当锁定构件绕第二轴线枢转时弯曲以施加所述第二力至锁定构件。

8.如权利要求1至3任一项所述的器具，其中，锁定构件包括用于接合支架的部分的装置。

9.如权利要求8所述的器件，其中，支架接合装置包括从锁定构件的侧部向外延伸的突出部。

10.如权利要求8所述的器具，其中锁定构件的支架接合装置包括第一表面和第二表面，该第一表面设置为在支架处于其支撑位置时支架的所述部分接合该第一表面，该第二表面被设置为当支架返回至其支撑位置时支架的所述部分接合该第二表面。

11.如权利要求8所述的器件，其中支架的所述部分位于支架的两个支撑臂的一个上，支架的每个臂可枢转地连接到主体。

12.如权利要求1至3任一项所述的器具，其中，支架保持机构由主体支撑。

13.如权利要求12所述的器件，其中，支架保持机构位于主体的壳体内。

14.如权利要求13所述的器件，其中，壳体被成形为限定所述第一和第二枢转轴线。

15.如权利要求13所述的器具，其中，偏压装置包括接合壳体的第一端和接合锁定构件的第二端。

16.如权利要求12所述的器具，其中，主体包括容置风扇单元的壳体，且其中，支架保持机构被该壳体支撑。