[发明专利]一种离子注入低能透镜

说明书

技术领域

本发明是一种离子注入机光路器件，特别涉及半导体制造离子注入工艺中所用的离子注入机，属于半导体器件制造领域。

背景技术

离子注入机是现代半导体集成电路制造中必不可少的工艺设备。现今的半导体集成电路制造工艺对离子注入机的要求越来越高。不仅对整机可靠性、束流纯净度、束流均匀性、注入角度等提出了更高的要求，而且对注入机的离子能量范围、束斑形状、离子束传输效率等也提出了很高的要求，并对其工艺和设备的要求越来越高。特别是对注入机光路系统的要求更加严格。

为了提高注入机粒子离子束的品质，有效地减少离子溅射污染，得到稳定的高精度离子离子束，本发明采用三膜片结构，前后均为地电极，中间为聚焦电极的新型设计。

发明内容

本发明专利是针对低能模式下离子注入机的离子束聚焦，提高离子束的传输效率。离子束通过分析光栏进入低能聚焦透镜，在前地电极和中间聚焦电极之间受到电场力作用趋于分散状态，当分散的离子束进入中间聚焦电极和后地电极之间的电场场时，由于电场力的作用下达到聚焦的效果。

本发明通过以下技术方式实现：

一种离子注入低能透镜包括：入口电极(1)、出口电极(2)、中间聚焦电极(3)、安装法兰(4)、两个连接棒(5)、绝缘供电连接(6)。

所述的入口电极(1)、出口电极(2)分别与连接棒(5)的一端连接，连接棒(5)的另一端连接到安装法兰(4)；

所述的安装法兰(4)用于固定连接棒(5)和绝缘供电连接(6)，处在地电位；

所述的中间聚焦电极(3)和绝缘供电连接(6)连接，与入口电极(1)、出口电极(2)之间绝缘；

所述的两个连接棒(5)用于连接入口电极(1)、出口电极(2)和安装法兰(4)，将入口电极(1)和出口电极(2)同地电位连通，是导电棒；

所述的绝缘供电连接(6)一端连接中间聚焦电极(3)，另一端连接外部电源，向聚焦电极(3)供电，连接电源端具有两个连接口，可用于检测实际供电状态。

本发明具有以下优点：

安装结构稳定，工作可靠，重复性高；

聚焦能力强，通过调节中间聚焦电极的供电电压，可很好的控制对离子束的聚焦效果。

附图说明：

附图说明本发明的具体实施方式。在图中，相同的附图标记表示相同的部件。

附图1是本发明的一种实施方式的示意图

具体实施方式：

下面结合附图的具体实施例对本发明作进一步介绍，应该理解，这些描述都是说明性的，本发明不限于此。本发明的范围仅由所附权利要求的范围所限定。

本发明的一种实施方式如图1中所示。

图1中示出一种离子注入低能透镜，包括：

入口电极(1)、出口电极(2)、中间聚焦电极(3)、安装法兰(4)、两个连接棒(5)、绝缘供电连接(6)。其中所述的入口电极(1)、出口电极(2)分别与连接棒(5)的一端连接，两者之间的距离由连接棒(5)的结构尺寸确定，连接棒(5)的另一端连接到安装法兰(4)，将入口电极(1)、出口电极(2)连接到地电位，是导电杆，可采用铝合金等导电材料制作；所述的安装法兰(4)用于固定连接棒(5)和绝缘供电连接(6)，处在地电位，也是将整个低能透镜安装的注入机的接口，一般设计有真空检测接口，定位销等；所述的中间聚焦电极(3)和绝缘供电连接(6)连接，与入口电极(1)、出口电极(2)之间绝缘，一般采用高纯石墨制作，降低溅射污染，提高使用寿命；所述的绝缘供电连接(6)一端连接中间聚焦电极(3)，另一端连接外部电源，向聚焦电极(3)供电，连接电源端具有两个连接口，可用于检测实际供电状态，与安装法兰(4)之间采用绝缘材料，并设计防污染结构，提高绝缘性能和使用寿命。

本发明的特定实施例已对本发明的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言，在不背离本发明精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动，或者惯用手段的直接替换，都构成对本发明专利的侵犯，将承担相应的法律责任。