[发明专利]一种抛光组合物无效
| 申请号： | 201010517500.4 | 申请日： | 2010-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN102453438A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 组合 | ||
1.一种抛光组合物，包括：一种磨料，一种pH调节剂，一种辅助清洗剂，一种螯合剂。
2.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述磨料为二氧化硅溶胶或发烟硅粉的水分散体。
3.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述磨料的粒径为40-250nm，所述磨料的含量为5-40wt％。
4.如权利要求3所述的抛光组合物，其特征在于，所述磨料的粒径为100-200nm，所述磨料的含量为10～20wt％。
5.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述pH调节剂为无机强碱和/或有机胺。
6.如权利要求5所述的抛光组合物，其特征在于，所述pH调节剂为选自KOH、NaOH、甲醇钠、乙醇钠、三乙胺和三乙醇胺中的一种或多种。
7.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述螯合剂为选自一元或多元羧酸，醋酸、乙二酸、丙二酸、柠檬酸；或者有机胺酸例如乙二胺四乙酸等中的一种或多种。
8.如权利要求8所述的抛光组合物，其特征在于，所述有机胺酸为乙二铵四乙酸。
9.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述的螯合剂的浓度为0.01-1wt％。
10.如权利要求9所述的抛光组合物，其特征在于，所述的螯合剂的浓度为0.1-0.5wt％。
11.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述辅助清洗剂为季铵盐和/或季铵碱。
12.如权利要求11所述的抛光组合物，其特征在于，所述辅助清洗剂为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四丙基溴化铵和/或四丁基氯化铵。
13.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述辅助清洗剂的浓度为0.01-1wt％。
14.如权利要求13所述的抛光组合物，其特征在于，所述辅助清洗剂的浓度为0.1-0.5wt％。
15.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述抛光组合物的pH值为10-12。
16.如权利要求15所述的抛光组合物，其特征在于，所述抛光组合物的pH值为10.5-11.5。
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