[发明专利]一种化学机械抛光液

权利要求书

1.一种用于铜互连阻挡层化学机械抛光的抛光液，包括：一种磨料颗粒、一种金属螯合剂、一种二氧化硅抛光促进剂、组合金属防腐蚀剂、一种辅助清洗剂以及一种氧化剂。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述磨料颗粒是二氧化硅溶胶和/或发烟二氧化硅水分散体。

3.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述磨料颗粒的粒径为20-250nm。

4.如权利要求3所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述磨料颗粒的粒径为30-150nm。

5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述磨料颗粒的含量为2-30wt％。

6.如权利要求5所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述磨料颗粒的含量为5-20wt％。

7.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述金属螯合剂为有机羧酸和/或有机膦。

8.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述金属螯合剂为选自：羟基亚乙基二膦酸、2-膦酸基丁烷-1，2，4-三羧酸、2-羟基膦酰基乙酸、草酸、丙二酸、丁二酸、柠檬酸和酒石酸中的一种或多种。

9.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述金属螯合剂的浓度为0.01-1wt％。

10.如权利要求9所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述金属螯合剂的浓度为0.1-0.5wt％。

11.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂为过氧化物和/或过硫化物。

12.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂的浓度为0.01-1wt％。

13.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述组合金属防腐蚀剂包括：唑类化合物和水溶性聚合物。

14.如权利要求13所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述唑类化合物为苯骈三氮唑或其衍生物；所述水溶性聚合物为聚丙烯酸及其盐或者丙烯酸共聚物。

15.如权利要求13所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述唑类化合物的浓度为0.01-0.5wt％。

16.如权利要求13所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述水溶性聚合物的浓度为0.05-0.5wt％。

17.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅抛光促进剂为选自四甲基卤化铵，四乙基卤化铵，四丙基卤化铵，四丁基卤化铵，四甲基氢氧化铵，四乙基氢氧化铵，四丙基氢氧化铵和四丁基氢氧化铵中的一种或多种。

18.如权利要求17所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅抛光促进剂为选自四丁基氟化氨，四丙基溴化铵和四丁基氢氧化铵中的一种或多种。

19.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅抛光促进剂的浓度为质量百分比10ppm到0.5％。

20.如权利要求19所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅抛光促进剂的浓度为质量百分比100ppm到0.2％。

21.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述辅助清洗剂为：阴离子表面活性剂。

22.如权利要求21所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述阴离子表面活性剂为选自烷基磷酸酯二乙醇胺盐，烷基磷酸酯三乙醇胺盐，磷酸烷基十二烷基磷酸酯铵盐，十二烷基磷酸酯钾盐，十四烷基磷酸酯钾盐和十六烷基磷酸酯钾盐中的一种或多种。

23.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的辅助清洗剂的含量为0.005-0.2wt％。

24.如权利要求23所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的辅助清洗剂的含量为0.01-0.1wt％。

25.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液pH值为2-5。

26.如权利要求25所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液pH值为2.5-3.5。