[发明专利]彩膜基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵、颜色像素矩阵、公共电极层和一组柱状隔垫物，其特征在于，所述公共电极层的边缘位于所述衬底基板边缘区域的黑矩阵外侧并与所述衬底基板接触，所述公共电极层的边缘的上方保留有柱状隔垫物材料层，且公共电极层的边缘与所述衬底基板的边缘之间存在预设距离。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述预设距离在0.1毫米～1毫米范围内。

3.一种液晶面板，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，其间填充有液晶层，其特征在于，所述彩膜基板采用权利要求1或2所述的彩膜基板。

4.一种液晶显示器，包括液晶面板和半裸背光模组，其特征在于，所述液晶面板采用权利要求3所述的液晶面板。

5.一种彩膜基板的制造方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵、颜色像素矩阵、公共电极层和一组柱状隔垫物的流程，其特征在于，形成所述柱状隔垫物的流程，还包括：去除所述衬底基板边缘区域上的公共电极层的步骤，以使所述公共电极层的边缘与所述衬底基板的边缘之间存在预设距离。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，在衬底基板上形成黑矩阵的流程，包括：

在所述衬底基板的像素区域和边缘区域分别形成黑矩阵，且所述边缘区域的黑矩阵上形成有缺口；

在所述公共电极层上形成一组柱状隔垫物，并去除所述衬底基板边缘区域上的公共电极层的步骤，具体包括：

在所述公共电极层上涂覆感光树脂薄膜；

采用双色调掩模板对所述感光树脂薄膜进行曝光显影，形成包括第一厚度区域、第二厚度区域和完全去除区域的图案，所述第一厚度区域的图案位于像素区域的黑矩阵上方，所述完全去除区域的图案位于所述缺口外侧的边缘区域且所述完全去除区域的长度等于所述预设距离的长度，所述第二厚度区域的图案位于除第一厚度区域和完全去除区域之外的图案上方，且第二厚度小于第一厚度；

按照第二厚度灰化第一厚度区域和第二厚度区域的感光树脂薄膜，并剥离所述完全去除区域的黑矩阵和公共电极层。

7.根据权利要求5或6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成黑矩阵、颜色像素矩阵、公共电极层的流程，包括：

在衬底基板上涂覆黑矩阵材料，采用构图工艺形成网状的黑矩阵的图案；

在形成黑矩阵的衬底基板上，涂覆颜色树脂材料，采用构图工艺在像素区域的黑矩阵的间隔中形成颜色像素矩阵；

在形成颜色像素矩阵的衬底基板上，形成铺满整个衬底基板的公共电极层。