[发明专利]一种粗化表面发光二极管制作方法无效
申请号: | 201010517842.6 | 申请日: | 2010-10-25 |
公开(公告)号: | CN101964386A | 公开(公告)日: | 2011-02-02 |
发明(设计)人: | 潘群峰;吴志强;林科闯 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/22 | 分类号: | H01L33/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361009 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 表面 发光二极管 制作方法 | ||
1.一种粗化表面发光二极管制作方法,其步骤包括:
1)在蓝宝石衬底上依次生长n型氮化镓基外延层、有源层、p型氮化镓基外延层和非掺杂氮化镓基外延层;
2)在非掺杂氮化镓基外延层上定义掩膜区和粗化区,并在掩膜区的非掺杂氮化镓基外延层上镀一金属层,以覆盖整个掩膜区;
3)采用电化学湿法蚀刻粗化区的未掺杂氮化镓基外延层,蚀刻停止在p型氮化镓基外延层表面,形成粗化的须状体表面形貌,暴露出部分区域的p型氮化镓基外延层,粗化后去除掩膜金属层;
4)在粗化区的p型氮化镓基外延层和非掺杂氮化镓基外延层上制作透明导电层;
5)蚀刻去除掩膜区的未掺杂氮化镓基外延层、p型氮化镓基外延层和有源层,暴露出n型氮化镓基外延层;
6)分别在透明导电层和n型氮化镓基外延层上制作p电极和n电极。
2.根据权利要求1所述的粗化表面发光二极管制作方法,其特征在于:所述金属层材料选自Ti、Ni、Pt、Au或Cr。
3.根据权利要求1所述的粗化表面发光二极管制作方法,其特征在于:所述电化学蚀刻是在紫外光照射条件下或者加温的条件下进行。
4.根据权利要求1所述的粗化表面发光二极管制作方法,其中的电化学蚀刻溶液呈碱性。
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