[发明专利]一种粗化表面发光二极管制作方法无效

专利信息
申请号: 201010517842.6 申请日: 2010-10-25
公开(公告)号: CN101964386A 公开(公告)日: 2011-02-02
发明(设计)人: 潘群峰;吴志强;林科闯 申请(专利权)人: 厦门市三安光电科技有限公司
主分类号: H01L33/22 分类号: H01L33/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361009 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 发光二极管 制作方法
【权利要求书】:

1.一种粗化表面发光二极管制作方法,其步骤包括:

1)在蓝宝石衬底上依次生长n型氮化镓基外延层、有源层、p型氮化镓基外延层和非掺杂氮化镓基外延层;

2)在非掺杂氮化镓基外延层上定义掩膜区和粗化区,并在掩膜区的非掺杂氮化镓基外延层上镀一金属层,以覆盖整个掩膜区;

3)采用电化学湿法蚀刻粗化区的未掺杂氮化镓基外延层,蚀刻停止在p型氮化镓基外延层表面,形成粗化的须状体表面形貌,暴露出部分区域的p型氮化镓基外延层,粗化后去除掩膜金属层;

4)在粗化区的p型氮化镓基外延层和非掺杂氮化镓基外延层上制作透明导电层;

5)蚀刻去除掩膜区的未掺杂氮化镓基外延层、p型氮化镓基外延层和有源层,暴露出n型氮化镓基外延层;

6)分别在透明导电层和n型氮化镓基外延层上制作p电极和n电极。

2.根据权利要求1所述的粗化表面发光二极管制作方法,其特征在于:所述金属层材料选自Ti、Ni、Pt、Au或Cr。

3.根据权利要求1所述的粗化表面发光二极管制作方法,其特征在于:所述电化学蚀刻是在紫外光照射条件下或者加温的条件下进行。

4.根据权利要求1所述的粗化表面发光二极管制作方法,其中的电化学蚀刻溶液呈碱性。

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