[发明专利]一种单晶硅片清洗用水的回收利用方法无效
申请号: | 201010519261.6 | 申请日: | 2010-10-23 |
公开(公告)号: | CN102001715A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 王土军;徐增宏;余城伟;方明游 | 申请(专利权)人: | 浙江硅宏电子科技有限公司 |
主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 舒良 |
地址: | 324300 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单晶硅 清洗 回收 利用 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种单晶硅片清洗用水的回收利用方法。
背景技术
目前,在单晶硅片的生产过程中,需要用水进行清洗,通常情况下,一般要经过自来水超洗→自来水鼓泡超洗→药品+纯水超洗第一次→药品+纯水超洗第二次→纯水超洗第一次→纯水超洗第二次→纯水超洗第三次→纯水超洗第四次,总共要经过八道用水,每道用水完毕后均排放掉,且纯水需要通过制水设备制得,其分离出的浓水也要排放掉,这不但需要消耗大量的水资源,而且排放的越多,给环境带来不利的影响越大。
发明内容
本发明的目的是提供能节约和回收利用水资源,有利于环境保护的一种单晶硅片清洗用水的回收利用方法。
本发明采取的技术方案是:一种单晶硅片清洗用水的回收利用方法,其单晶硅片的清洗需要经过超洗(第一道)→鼓泡超洗(第二道)→药品+纯水超洗第一次(第三道)→药品+纯水超洗第二次(第四道)→纯水超洗第一次(第五道)→纯水超洗第二次(第六道)→纯水超洗第三次(第七道)→纯水超洗第四次(第八道),且其中需要利用制水设备将自来水分离成纯水和浓水,其特征在于把纯水超洗第三(第七道)、纯水超洗第四次(第八道)后的排放水回收,并与浓水混合后,该混合水可先用于鼓泡超洗(第二道),然后用于超洗(第一道),之后排放处理,也可以分别用于鼓泡超洗(第二道)和超洗(第一道),再各自排放处理;或是将上述所制得的浓水可先用于鼓泡超洗(第二道),然后用于超洗(第一道),之后排放处理,也可以分别用于鼓泡超洗(第二道)和超洗(第一道),再各自排放处理。
采用本发明,不仅可节约大量用水,节省成本,也可减少废水排放,有利于环保。
具体实施方式
下面结合具体的实施例对本发明作进一步说明。
实施例一
1、单晶硅片的清洗工艺:超洗→鼓泡超洗→药品+纯水超洗第一次→药品+纯水超洗第二次→纯水超洗第一次→纯水超洗第二次→纯水超洗第三次→纯水超洗第四次,
2、先利用制水设备,将自来水分离成纯水和浓水。
3、将纯水分别通过不同管道,用于药品+纯水超洗第一次(第三道)、药品+纯水超洗第二次(第四道)、纯水超洗第一次(第五道)、纯水超洗第二次(第六道)、纯水超洗第三次(第七道)、纯水超洗第四次(第八道)。然后,对药品+纯水超洗第一次(第三道)、药品+纯水超洗第二次(第四道)、纯水超洗第一次(第五道)、纯水超洗第二次(第六道)的用水排放处理。
4、将之前所述的纯水超洗第三次(第七道)和纯水超洗第四次(第八道)的用水回收,与浓水进行混合后,让混合水先进入硅片清洗的鼓泡超洗(第二道),然后再用于超洗(第一道),之后排放处理。或是将混合水分别用于鼓泡超洗(第二道)和超洗(第一道),再各自排放处理。
实施例二
1、单晶硅片的清洗工艺:超洗→鼓泡超洗→药品+纯水超洗第一次→药品+纯水超洗第二次→纯水超洗第一次→纯水超洗第二次→纯水超洗第三次→纯水超洗第四次,
2、先利用制水设备,将自来水分离成纯水和浓水。
3、将纯水分别通过不同管道,用于药品+纯水超洗第一次(第三道)、药品+纯水超洗第二次(第四道)、纯水超洗第一次(第五道)、纯水超洗第二次(第六道)、纯水超洗第三次(第七道)、纯水超洗第四次(第八道)。然后,对药品+纯水超洗第一次(第三道)、药品+纯水超洗第二次(第四道)、纯水超洗第一次(第五道)、纯水超洗第二次(第六道)的用水排放处理。
4、将之前所述的浓水可先用于鼓泡超洗(第二道),然后用于超洗(第一道),之后排放处理处理。或是将之前所述的浓水分别用于鼓泡超洗(第二道)和超洗(第一道),再各自排放处理。
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