[发明专利]兼具阻隔作用及良好生物相容性的内壁涂层的制备方法

权利要求书

1.一种兼具阻隔作用及良好生物相容性的内壁涂层的制备方法，其特征在于，包括：

步骤S10：将待处理体放入原子层沉积设备的反应腔体中，对所述反应腔体进行真空处理；

步骤S20：将一定量的第一前驱体脉冲压入所述反应腔体中，压入的第一前驱体在所述待处理体内壁浸润吸附，抽气去除多余的所述第一前驱体；

步骤S30：将一定量的第二前驱体脉冲压入所述反应腔体中，压入的第二前驱体与所述待处理体内壁表面上的所述第一前驱体反应吸附，抽气去除多余的所述第二前驱体以及反应副产物；

步骤S40：重复所述步骤S20和步骤S30，直至所述待处理体内壁沉积所需厚度的涂层薄膜；

其中，所述第一前驱体为含钛前驱体，所述第二前驱体为含氧前驱体；或者，所述第一前驱体为含氧前驱体，所述第二前驱体为含钛前驱体。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将一定量的第一前驱体压入反应腔体后，所述步骤S20还包括：所述第一前驱体在所述反应腔体中驻留。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将一定量的第二前驱体压入反应腔体后，所述步骤S30还包括：所述第二前驱体在所述反应腔体中驻留。

4.如权利要求2或3所述的方法，其特征在于，驻留时间为1-100S。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S20和步骤S30中，脉冲时间分别为0.015-100S。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S20和步骤S30中，抽气时间分别为5-600S。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S10之后，该方法还包括：加热所述含钛前驱体。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，加热温度为20-180℃。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含钛前驱体包括：TDMAT、TEMAT、TDEAT、TiCl₄、TiI₄、Ti(OMe)₄、Ti(OEt)₄、Ti(OiPr)₄、Ti(OiPr)₂(dmae)₂、Ti(OBu)₄或Ti(NMe₂)₄。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含氧前驱体包括：H₂O、O₂、H₂O₂、O₃或O等离子体。