[发明专利]空心砖的制法无效

专利信息
申请号: 201010521332.6 申请日: 2010-10-27
公开(公告)号: CN102452126A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 陈景云 申请(专利权)人: 陈景云
主分类号: B28B3/00 分类号: B28B3/00;B28B7/22;B28B7/24
代理公司: 北京汇智英财专利代理事务所 11301 代理人: 牟长林
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 空心砖 制法
【说明书】:

技术领域

发明是有关一种空心砖,尤指一种以加快空心砖墙的施工速度,降低施工成本,并增进空心砖墙美观的一种空心砖及其制造方法。

背景技术

请参阅图6所示,为目前所常使用的空心砖a,其制法主要是先将一具有多个模穴的框形模具置放于一平台上,再将水泥、砂及水的混合物由上往下填充于模穴内,并在填满后,以上模向下加压,使空心砖成型为粗胚,而经过干燥程序之后,成型为具有足够强度而可供使用的成品。

如图7所示,当以上述空心砖a进行施工时,传统的方式是先在空心砖a与空心砖a之间以水泥砂浆连结,再于上、下层叠的每两层空心砖a之间铺设一补强的横向铁丝网b,并以间隔植筋及灌浆的方式将各空心砖a定位。其中,空心砖a与空心砖a之间的水泥砂浆主要是用于短暂的定位各空心砖a,而主要的连结力量则是来自于横向铁丝网b、植筋及灌浆的连结。

只是,以前述空心砖的制造方法所成型的空心砖a,其所能容许的误差为±2mm,亦即长度、宽度及高度的误差都必须在±2mm之内。在砌砖墙时,虽然各空心砖a的长度及宽度的不同并不会影响砖墙的施工,但如图8所示,当各空心砖a的高度参差不齐时,则必须经由熟练的技术工进行准确的高度填补作业,以使各空心砖a的高度一致。如此一来,将会大幅增加施工的成本。

再者,前述空心砖的制造方法仅能在砌成砖墙的空心砖a的侧面形成简单的线条或图案,而无法一次压制丰富的图案,或是在空心砖的制造过程中,同时于空心砖的侧面形成防水层。

有鉴于此,为了提供一种有别于现有技术的制造方法,并改善上述的缺点,使空心砖的制法能制造出具有一致高度的空心砖,以降低砖墙施工成本,且可在空心砖的侧面成型丰富的图案或防水面料层,发明人积多年的经验及不断的研发改进,遂有本发明的产生。

发明内容

本发明的主要目的在提供一种侧面具有丰富的图案或防水面料层的空心砖的制法,以便能以该空心砖砌成具有丰富表面的空心砖墙,并可以一次加工程序而形成防水或具有色料的面料层,以节省二次加工的时间及费用。

本发明的次要目的在提供一种能大量制造出具有一致高度的空心砖的制法,以便能加快空心砖墙的施工速度,并降低施工成本。

为达上述发明的目的,本发明所设的空心砖的制法是包括下列步骤:a.提供一设有模穴的框形模具,并将框形模具置放于一平台上;b.将至少一模仁横向穿过该框形模具的模穴;c.下料进入模穴内,并以一上模向下挤压以成型空心砖初胚;d.提起上模并抽出模仁;以及e.移动框形模具,使框形模具与空心砖初胚分离,并移出空心砖初胚,使干燥定型。

实施时,本发明更包括一振动步骤,是在下料进入模穴内后,振动该框形模具以使料填实。

实施时,该料为水泥、砂及水的混合物。

实施时,本发明更包括一面料层下料步骤,是在成型空心砖初胚后,再下一层面料,以使面料结合于空心砖的上表面。

为便于对本发明能有更深入的了解,兹详述于后:

附图说明

图1为本发明的较佳实施例的步骤流程图。

图2为依本发明的较佳实施例所设置的各元件的立体示意图。

图3为依本发明所制成的空心砖初胚的立体外观图。

图4为依本发明所制成的空心砖的使用状态图。

图5为本发明的较佳实施例增加一面料层下料步骤所成型的空心砖的立体外观图。

图6为现有空心砖的立体外观图。

图7为现有空心砖墙的施工图。

图8为现有空心砖墙的各空心砖堆叠时的立体外观图。

【主要元件符号说明】

1 框形模具   11 模穴     12 纵向立板  13 横向立板

14 穿孔      2 平台      3 模仁       4 上模

5 空心砖初胚 6、8 空心砖 61 通孔      7 空心砖墙

81 面料层    a 空心砖    b 铁丝网

具体实施方式

请参阅图1所示,其为本发明空心砖的制法的较佳实施例,而如图2所示,为依本实施例所设置的各元件的立体示意图,本实施例是包括下列步骤:

a.提供一设有模穴11的框形模具1,并将框形模具1置放于一平台2上。

b.将至少一模仁3横向穿过该框形模具1的模穴11。

c.下料进入模穴11内,并以一上模4向下挤压以成型空心砖初胚5。

d.提起上模4并抽出模仁3。以及

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陈景云,未经陈景云许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010521332.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top