[发明专利]光刻设备和图案形成装置

权利要求书

1.一种光刻设备，所述光刻设备包括：

照射系统，被配置以调节辐射束；

支撑件，被构造以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中将图案赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；

衬底台，被构造以保持衬底；和

投影系统，被配置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；

所述光刻设备还包括投影传递测量布置，以测量所述投影系统的光学投影传递信息，所述投影传递测量布置包括：

光学装置，用于将测量束引导到投影系统，

探测器，用于探测已经穿过所述投影系统的所述测量束，和

测量处理装置，用于根据所探测的测量束来确定所述光学投影传递信息，其中所述光学装置和所述探测器被布置在所述投影系统的上游端。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述投影传递测量布置还包括：

第一光栅，用于在已经穿过所述投影系统之后将所述测量束的至少一部分反射回所述投影系统中；和

第二光栅，被放置在所述探测器的前面，以接收由所述第一光栅反射的所述测量束。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述光学装置包括楔，用于偏转所述辐射束的一部分。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中所述楔和所述第二光栅设置在所述图案形成装置上，所述第一光栅设置在所述衬底上。

5.根据权利要求4所述的光刻设备，其中设置有两个测量布置，所述两个测量布置在使用中相对于基本上平行于所述投影系统的光轴的线基本上对称地布置，根据所述测量布置的输出信号来计算垂直和水平的定位信息。

6.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述光学装置、所述第一光栅和所述第二光栅连接至所述投影系统，所述光学装置和所述第二光栅设置在所述投影系统的上游光学元件处，所述第一光栅设置在所述投影系统的下游光学元件处。

7.根据权利要求6所述的光刻设备，其中设置有两个测量布置，所述测量布置中的所述第一光栅具有基本上彼此垂直地延伸的线。

8.根据权利要求6所述的光刻设备，其中设置有4个或更多的测量布置，所述测量布置中的两个的第一光栅具有大致垂直于所述两个另外的测量布置中的第一光栅延伸的线，所述测量布置中的第一光栅被设置成在基本上平行于所述投影系统的光轴的方向上看在所述投影系统的图案形成装置狭缝投影区域周围进行投影。

9.根据权利要求6所述的光刻设备，其中所述测量布置包括倾斜的反射镜，以将所述第二光栅和所述探测器的组合或所述第一光栅镜像映射到所述投影系统中。

10.根据权利要求9所述的光刻设备，其中设置有两个测量布置，当被各自的倾斜的反射镜镜像映射到所述投影系统中时，所述两个测量布置的第一光栅具有基本上彼此垂直延伸的线。

11.根据权利要求9所述的光刻设备，其中设置有4个测量布置，所述测量布置中的两个的第一光栅当被所述各自的倾斜的反射镜镜像映射到所述投影系统中时具有基本上垂直于两个另外的测量布置中的第一光栅延伸的线，所述测量布置中的第一光栅被设置成在基本上平行于所述投影系统的光轴的方向上看在所述投影系统的图案形成装置狭缝投影区域周围被投影。

12.一种光刻设备图案形成装置，包括第二光栅和探测器的组合和楔。