[发明专利]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201010526085.9 申请日: 2003-04-22
公开(公告)号: CN102044413A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 水越正孝;石月义克;中川香苗;冈本圭史郎;手代木和雄;酒井泰治 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/60;H01L21/48
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 浦柏明;徐恕
地址: 日本国神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,其在基板的表面上形成用于与外部进行电连接的凸块时使用,其特征在于,包括:

基板支承台,该基板支承台具有平整的支承面,使基板用其一个面吸附在上述支承面上,将上述一个面强制地作为平整的基准面来进行支承固定;

切削加工上述基板的其他面的刀具,其中,

在上述基板支承台上支承固定基板,该基板在表面上,在多个上述凸块和在上述凸块之间形成绝缘膜而构成,通过使用上述刀具的切削加工进行平整化处理,使得上述各凸块的表面和上述绝缘膜的表面连续且平整。

2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,利用上述基板支承台,以上述基板的表面为基准面,利用上述刀具对上述基板的背面进行切削加工之后,利用上述基板支承台,以上述基板的上述背面为基准面,利用上述刀具对上述基板的上述表面进行切削加工,进行平整化处理,使得上述各凸块的表面和绝缘膜的表面连续且平整。

3.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,在以上述背面为基准进行上述半导体基板的平行切制的同时,检出上述布线形成面的位置,从检出的上述布线形成面算出切削量并进行控制。

4.如权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,在检出上述布线形成面的位置时,向上述布线形成面的周边部位的多处中的绝缘膜照射激光,使绝缘物加热飞散,使上述布线形成面的一部分露出。

5.如权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,在检出上述布线形成面的位置时,向上述背面照射红外激光,测定来自上述布线形成面的反射光。

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