[发明专利]硒稼硅银化合物、硒稼硅银非线性光学晶体及制法和用途有效

专利信息
申请号: 201010528888.8 申请日: 2010-10-28
公开(公告)号: CN102453960A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 姚吉勇;梅大江;尹文龙;傅佩珍;吴以成 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B11/00
代理公司: 北京法思腾知识产权代理有限公司 11318 代理人: 高宇;杨小蓉
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 硒稼硅银 化合物 非线性 光学 晶体 制法 用途
【权利要求书】:

1.一种硒稼硅银化合物,其化学式Ag4-xGa4-xSixSe8,其中0.85<x<1.15。

2.一种权利要求1所述硒稼硅银化合物的固相反应制备方法,其步骤如下:

将含Ag物质、含Ga物质、含Si物质和单质Se按照摩尔比Ag∶Ga∶Si∶Se=(4-x)∶(4-x)∶x∶8的比例配料并混合均匀后,加热至600-750℃进行加热固相反应,其中0.85<x<1.15;所述含Ag物质为单质银、硒化银或硒稼银;所述Ga物质为单质稼、三硒化二稼或硒稼银所述Si物质为单质硅或二硒化硅。

3.按权利要求2所述硒稼硅银化合物的制备方法,其特征在于,所述的加热固相反应步骤是:将上述含Ag物质、含Ga物质、含Si物质和单质Se配料研磨之后装入石英管中,对石英管抽真空至10-3pa并进行熔化封装,放入马弗炉中,以10-50℃/小时的速率升温至600-750℃,恒温48-72小时,待冷却后取出样品;对取出的样品重新研磨混匀再置于石英管中抽真空至10-3pa并进行再熔化封装,再放入马弗炉内升温至600-750℃烧结24-48小时;将样品取出,并捣碎研磨得粉末状硒稼硅银化合物。

4.一种权利要求1所述硒稼硅银化合物的气相传输制备方法,其步骤如下:

按照摩尔比Ag∶Ga∶Si∶Se=(4-x)∶(4-x)∶x∶8称取单质Ag、单质Ga、单质Si和单质Se,将所述单质Ag、单质Ga和单质Si均匀混合后放在石英管的一端,将所述单质Se放在石英管的另一端;将石英管抽真空密封后放入水平合成炉中,使放置单质Se的一端位于水平合成炉的低温区,放置单质Ag、单质Ga和单质Si混合物的一端在水平合成炉的高温区;升温使低温区温度为300-400℃,高温区温度为600-800℃,保温至少3小时,再降至室温,得到Ag4-xGa4-xSixSe8化合物,其中0.85<x<1.15。

5.一种权利要求1所述的硒稼硅银非线性光学晶体,其特征在于,其不具备对称中心,属四方晶系,空间群为其晶胞参数为:α=β=γ=90°。

6.一种权利要求5所述硒稼硅银非线性光学晶体的制备方法,其为高温熔体自发结晶法生长硒稼硅银非线性光学晶体,其步骤为:

将粉末状硒稼硅银化合物加热至熔化得高温熔液并保持24-96小时后,以0.1-10℃/小时的降温速率降温至室温,得到红色透明的硒稼硅银晶体。

7.按权利要求6所述硒稼硅银非线性光学晶体的制备方法,其特征在于,所述粉末状硒稼硅银化合物采用加热固相反应法制备,其步骤如下:

将含Ag物质、含Ga物质、含Si物质和单质Se按照摩尔比Ag∶Ga∶Si∶Se=(4-x)∶(4-x)∶x∶8的比例配料并混合均匀后,加热至600-750℃进行加热固相反应,其中0.85<x<1.15;所述含Ag物质为单质银、硒化银或硒稼银;所述Ga物质为单质稼、三硒化二稼或硒稼银所述Si物质为单质硅或二硒化硅。

8.按权利要求7所述硒稼硅银非线性光学晶体的制备方法,其特征在于,所述的加热固相反应步骤是:将上述含Ag物质、含Ga物质、含Si物质和单质Se配料研磨之后装入石英管中,对石英管抽真空至10-3pa并进行熔化封装,放入马弗炉中,以10-50℃/小时的速率升温至600-750℃,恒温48-72小时,待冷却后取出样品;对取出的样品重新研磨混匀再置于石英管中抽真空至10-3pa并进行再熔化封装,再放入马弗炉内升温至600-750℃烧结24-48小时;将样品取出,并捣碎研磨得粉末状硒稼硅银化合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院理化技术研究所,未经中国科学院理化技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010528888.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top