[发明专利]一种三层膜结构的Low-E玻璃及其生产工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种Low-E玻璃及其生产工艺，尤其涉及一种三层膜结构的Low-E玻璃及其生产工艺。

背景技术

由于有着优异的热性能和良好的光学性能，Low-E玻璃的运用越来越广泛，现有的Low-E玻璃大多是用液体金属或金属粉末直接喷射到热玻璃表面上，随着玻璃的冷却，在玻璃表面形成一层金属薄膜，而为了增加玻璃的耐磨性能，往往需要增加金属薄膜的厚度，因而造成其光透射度和透明性较差。

发明内容

本发明为了解决以上问题提供了一种耐磨性好、光透射度好、色彩鲜明的三层膜结构的Low-E玻璃及其生产工艺。

本发明的技术方案是：包括有Low-E玻璃基片，其特征在于：玻璃基片上由里到外依次复合有三层膜，中间的膜为纯银薄膜，纯银薄膜两侧的膜为金属氧化物膜，具体加工步骤如下：

1)、将Low-E玻璃基片垂直放置在架子上，送入10-1帕数量级的真空环境内；

2)、向真空环境内通入适量的惰性气体Ar或反应气体O₂、N₂，并保持真空度稳定；

3)、将靶材Ag、Si分别嵌入两个阴极，并在与阴极垂直的水平方向置入磁场构成磁控靶；

4)、以磁控靶为阴极，加上直流或交流电源，在高电压的作用下，惰性气体或反应气体发生电离；

5)、将嵌入Ag、Si的两个阴极靶，先后靠近玻璃表面来回移动，形成三成均匀的薄膜。

所述的金属氧化物为金属硅氧化物。

本发明产品设置了三层膜结构，中间的膜为纯银薄膜，两侧为金属氧化物膜，金属氧化物膜对纯银薄膜提供保护，增加了玻璃的耐磨性，同时作为膜层中间的纯银薄膜增加了色彩的纯度和光透射度，节能环保。

本发明工艺实施难度低、方法简便，形成的三层膜结构均匀一致，对设备的要求较低，容易实现。

具体实施方式

一种三层膜结构的Low-E玻璃及其生产工艺，包括有Low-E玻璃基片，玻璃基片上由里到外依次复合有三层膜，中间的膜为纯银薄膜，纯银薄膜两侧的膜为金属氧化物膜，具体加工步骤如下：

1)、将Low-E玻璃基片垂直放置在架子上，送入10-1帕数量级的真空环境内；

2)、向真空环境内通入适量的惰性气体Ar或反应气体O₂、N₂，并保持真空度稳定；

3)、将靶材Ag、Si分别嵌入两个阴极，并在与阴极垂直的水平方向置入磁场构成磁控靶；

4)、以磁控靶为阴极，加上直流或交流电源，在高电压的作用下，惰性气体或反应气体发生电离；

5)、将嵌入Ag、Si的两个阴极靶，先后靠近玻璃表面来回移动，形成三成均匀的薄膜。

所述的金属氧化物为金属硅氧化物。