[发明专利]高温水蒸气和水混合射流清洗系统及方法有效
申请号: | 201010531171.9 | 申请日: | 2010-11-03 |
公开(公告)号: | CN102466988A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 王磊;景玉鹏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;B08B3/02 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 王建国 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高温 水蒸气 混合 射流 清洗 系统 方法 | ||
1.一种高温水蒸气和水混合射流清洗系统,其特征在于,包括:
两个去离子水储罐、用于对去离子水加热并使其达到高温状态的控制装置、清洗腔室及用于将含去离子水和高温状态水蒸气的混合流体喷射到清洗腔室的喷射装置;其中,一去离子水储罐的出口通过所述控制装置与所述喷射装置的入口连接,另一去离子水储罐的出口与所述喷射装置的入口连接;所述喷射装置的出口与所述清洗腔室的入口连接。
2.根据权利要求1所述的清洗系统,其特征在于,还包括:
去离子水辅助载流装置,所述去离子水辅助载流装置包括N2气瓶、过滤器;所述N2气瓶的出口通过所述过滤器与一去离子水储罐的入口连接。
3.根据权利要求1所述的清洗系统,其特征在于,所述控制装置包括:
热交换器及过滤器;所述热交换器的入口通过所述过滤器与所述一个去离子水储罐的出口连接;所述热交换器的出口与所述喷射装置的入口连接。
4.根据权利要求3所述的清洗系统,其特征在于,所述喷射装置包括:
用于将所述去离子水和高温状态水蒸气混合的混合腔室及喷嘴;所述混合腔室的入口与所述热交换器的出口连接;所述混合腔室的入口还与所述另一去离子水储罐的出口连接;所述喷嘴的入口与所述混合腔室的出口连接,将含去离子水和高温状态水蒸气的混合流体喷射到所述清洗腔室内。
5.根据权利要求4所述的清洗系统,其特征在于:
所述清洗腔室内设置有可以旋转的用于固定样片的托盘;所述托盘位于所述喷嘴下;所述喷嘴包括一旋转接头,所述喷嘴能够绕所述旋转接头的轴线360°旋转,按照步进电机式进行移动扫描,且所述喷嘴可拆卸更换。
6.根据权利要求1至5任一项所述的清洗系统,其特征在于:还包括废液储罐,所述废液储罐的入口通过排液阀门与所述清洗腔室的出口连接。
7.根据权利要求1-5任一项所述的清洗系统,其特征在于:
所述处于高温状态的水蒸气的温度为100~600℃。
8.根据权利要求1-5任一项所述的清洗系统,其特征在于:
所述混合流体中去离子水和水蒸气的比例为40~90%。
9.一种高温水蒸气和水混合射流清洗方法,其特征在于,包括:
形成高温状态的水蒸气;
形成含去离子水和所述高温水蒸气的混合流体;及
使用所述混合流体对样片进行清洗处理。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于:
所述处于高温状态的水蒸气的温度为100~600℃;所述混合流体中去离子水和水蒸气的比例为40~90%。
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