[发明专利]长寿命晶体硅太阳电池的制造方法无效
申请号: | 201010535594.8 | 申请日: | 2010-11-09 |
公开(公告)号: | CN102468362A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 张松 | 申请(专利权)人: | 张松 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C30B33/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 226124 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 寿命 晶体 太阳电池 制造 方法 | ||
技术领域:
本发明涉及一种晶体硅太阳电池的制造方法。
背景技术:
现有的晶体硅太阳能电池,由于硼氧复合对的影响,在10年中输出功率下降约10%,20年中输出功率下降约20%,使用寿命短。
发明内容:
本发明的目的在于提供一种可有效减少硼氧复合对的产生,使用寿命长的长寿命晶体硅太阳电池的制造方法。
本发明的技术解决方案是:
一种长寿命晶体硅太阳电池的制造方法,包括扩磷处理步骤,其特征是:在扩磷处理步骤的通磷源前,先将硅片在氮气氛中热处理20~40分钟,再在氧氮气氛中热处理20~40分钟,热处理温度为500~1200℃,氧氮气氛中氮气与氧气的重量比为氮气∶氧气=100∶2~3。
热处理时,采用高温、低温配合处理的方法。
采用高温、低温配合处理的方法是:先在氮气氛中于500~900℃下进行,再在氧氮气氛中于1000~1200℃下进行。
采用高温、低温配合处理的方法是:先在氮气氛中于1000~1200℃下进行10~18分钟,氮气氛中其余时间的热处理在500~900℃下进行,再在氧氮气氛中于1000~1200℃下进行。
采用高温、低温配合处理的方法是:先在氮气氛中于1000~1200℃下进行,再在氧氮气氛中于500~900℃下进行lO~18分钟,氧氮气氛中其余时间于1000~1200℃下进行。
本发明可有效保证电池的表面形成洁净区,使体内过多的氧成核,有效减少硼氧复合对的产生,使用寿命长;特别是采用高温、低温配合处理的热处理方法,有效促进过多的氧低温成核。
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
具体实施方式:
实施例1:
一种长寿命晶体硅太阳电池的制造方法,包括扩磷处理步骤,在扩磷处理步骤的通磷源前,先将硅片在氮气氛中于500~900℃(例500℃、700℃、900℃)下进行热处理20~40分钟(例20、30、40分钟),再在氧氮气氛中于1000~1200℃(例1000℃、1100℃、1200℃)下进行热处理20~40分钟(例20、30、40分钟),氧氮气氛中氮气与氧气的重量比为氮气∶氧气=100∶2~3(例100∶2、100∶2.4、100∶3)。其余步骤按常规晶体硅太阳电池的制造步骤进行,即得产品。
实施例2:
一种长寿命晶体硅太阳电池的制造方法,包括扩磷处理步骤,在扩磷处理步骤的通磷源前,先在氮气氛中于1000~1200℃(例1000℃、1100℃、1200℃)下进行10~18分钟,氮气氛中其余时间的热处理在500~900℃(例500℃、700℃、900℃)下进行,再在氧氮气氛中于1000~1200℃(例1000℃、1100℃、1200℃)下进行。其余同实施例1。
实施例3:
一种长寿命晶体硅太阳电池的制造方法,包括扩磷处理步骤,在扩磷处理步骤的通磷源前,先在氮气氛中于1000~1200℃(例1000℃、1100℃、1200℃)下进行,再在氧氮气氛中于500~900℃(例500℃、700℃、900℃)下进行10~18分钟,氧氮气氛中其余时间于1000~1200℃(例1000℃、1100℃、1200℃)下进行。其余同实施例1。
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