[发明专利]粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置

权利要求书

1.一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置将通过加速器加速后的带电粒子束照射到照射目标上，其特征在于，包括：

脊形过滤器，该脊形过滤器具有损耗能量因所述带电粒子束通过的位置而不同的厚度分布；将所述带电粒子束偏转的偏转器；以及控制器，该控制器控制所述偏转器以使得所述带电粒子束通过所述脊形过滤器的所述厚度分布。

2.如权利要求1所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述偏转器具有：第一上游侧偏转器，该第一上游侧偏转器将所述带电粒子束朝着偏离入射的射束轴的方向偏转；以及第二上游侧偏转器，该第二上游侧偏转器配置在所述第一上游侧偏转器的下游一侧，将所述带电粒子束朝着与所述射束轴平行的方向偏转。

3.如权利要求1或2所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

在所述脊形过滤器的下游一侧具有将所述带电粒子束偏转的下游侧偏转器，

所述下游侧偏转器具有：第一下游侧偏转器，该第一下游侧偏转器将所述带电粒子束朝着该带电粒子束入射的射束轴的方向偏转；以及第二下游侧偏转器，该第二下游侧偏转器配置在所述第一下游侧偏转器的下游，将所述带电粒子束朝着与所述射束轴平行的方向偏转。

4.如权利要求3所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述下游侧偏转器使得所述带电粒子束与该带电粒子束入射的射束轴一致。

5.如权利要求1或2所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

在所述脊形过滤器的下游一侧，具有射束扫描单元，该射束扫描单元将所述带电粒子束在与该带电粒子束入射的射束轴相交的XY平面内进行扫描。

6.如权利要求3所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

在所述下游侧偏转器的下游一侧，具有射束扫描单元，该射束扫描单元将所述带电粒子束在与该带电粒子束入射的射束轴相交的XY平面内进行扫描。

7.如权利要求5所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述射束扫描单元具有将所述带电粒子束沿X方向进行扫描的X方向扫描电磁铁、以及将所述带电粒子束沿Y方向进行扫描的Y方向扫描电磁铁。

8.如权利要求5所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述射束扫描单元具有使所述带电粒子束以所述射束轴为中心进行旋转的X方向摇摆电磁铁和Y方向摇摆电磁铁。

9.如权利要求1或2所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

在所述脊形过滤器的下游一侧，具有射束扫描单元，该射束扫描单元将所述带电粒子束在与该带电粒子束入射的射束轴相交的XY平面内进行扫描，

所述射束扫描单元具有：X方向射束扫描单元，该X方向射束扫描单元配置在所述脊形过滤器侧、且将所述带电粒子束沿X方向进行扫描；以及将所述带电粒子束沿Y方向进行扫描的Y方向扫描电磁铁，

所述X方向射束扫描单元具有：将所述带电粒子束沿X方向进行扫描的X方向扫描电磁铁；以及X方向下游侧偏转器，该X方向下游侧偏转器配置在所述X方向扫描电磁铁的上游，且将通过所述脊形过滤器后的带电粒子束以引导至所述X方向扫描电磁铁的方式进行偏转。

10.如权利要求1或2所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

在所述脊形过滤器的下游一侧，具有射束扫描单元，该射束扫描单元将所述带电粒子束在与该带电粒子束入射的射束轴相交的XY平面内进行扫描，

所述射束扫描单元具有使所述带电粒子束以所述射束轴为中心进行旋转的X方向摇摆电磁铁和Y方向摇摆电磁铁，

所述X方向摇摆电磁铁配置在所述脊形过滤器侧，

所述射线照射装置具有X方向下游侧偏转器，该X方向下游侧偏转器配置在所述X方向摇摆电磁铁的上游，且将通过所述脊形过滤器后的带电粒子束以引导至所述X方向摇摆电磁铁的方式进行偏转。

11.如权利要求1或2所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述脊形过滤器具有多个所述厚度分布不同的顶峰。