[发明专利]一种微阵列反应装置

权利要求书

1.一种微阵列反应装置，其特征在于，该装置包括从上至下放置的顶层进样层(1)、顶层反应层(2)、底层反应层(3)和底层基片层(4)；其中顶层进样层(1)与顶层反应层(2)键合组成顶层芯片，底层反应层(3)与底层基片层(4)键合组成底层芯片；

顶层芯片和底层芯片上设置的样品进样孔，贮样孔，出样孔，连通孔以及连通通道均以贯穿中轴的中心圆孔为圆心呈辐射状排布在不同半径的圆周上，经键合后每层芯片上各自对应的连通孔与连通通道都完全对齐并形成部分连通的离散流体流道阵列，而贮样孔则不与任何通道相连，形成孤立的圆孔阵列；在顶层进样层(1)的最外圈圆周上模塑有一圈指示旋滑角度方位用的刻度，在底层基片层(4)上的最外圈圆周上模塑有一圈对应的指针；

顶层芯片与底层芯片之间为轴连接，两者之间能够旋转滑移。

2.根据权利要求1所述的微阵列反应装置，其特征在于，顶层进样层(1)上各反应子单元均包括第一进样孔，第一出样孔，第二进样孔与第二出样孔，上层连通通道以及刻度(7)；第一进样孔和第一出样孔位于中心通孔(5)的一个半径方向上，且第一进样孔靠近中心，第一出样孔靠近外周边缘；第二进样孔与第二出样孔位于中心通孔(5)相邻的另一个半径方向上，且第二进样孔靠近中心，第二出样孔靠近外周边缘；第二进样孔与第二出样孔之间设置间隔式的上层连通通道；刻度(7)则位于以通孔(5)为中心的最外周边缘处；另外，第一进样孔和第二进样孔与位于以通孔(5)为中心的同一半径圆周上，第二出样孔和第二出样孔则位于以通孔(5)为中心、另一半径的同一圆周上；

顶层反应层(2)上各反应子单元均包括第一进样孔，至少三个第一贮样孔，第一出样孔与至少六个上层连通孔，其中，各第一贮样孔位于第一进样孔与第一出样孔Sw之间的直线上且依次排开，各上层连通孔位于中心通孔(5)相邻的另一个半径方向上，且两两相邻依次排开成一条直线，每组相邻的两孔间距小于第二贮样孔的直径大小；

底层反应层(3)上各反应子单元均包括第一进样孔，至少六个下层连通孔，第一出样孔和至少三个第二贮样孔，下层连通孔位于第一进样孔与第一出样孔之间，且两两相邻依次排开成一条直线，每组相邻的两孔间距小于第一贮样孔的直径大小；各第二贮样孔位于中心通孔(5)相邻的另一个半径方向上；第二贮样孔到中心通孔(5)的距离与顶层反应层上第一贮样孔到中心通孔(5)的距离对应相等；

底层基片层(4)上各反应子单元均包括下层连通通道以及指示旋转方位的指针(8)；间隔式的下层连通通道位于中心通孔(5)的一个半径方向上；三角形指针(8)则与图(3)中顶层进样层上的刻度(7)相对应位于以通孔(5)为中心的次最外周边缘处；

上层连通通道和下层连通通道都与中心通孔(5)的半径方向平行，所有贮样孔直径尺寸相同。