[发明专利]流体喷射器上的热氧化物涂层有效

专利信息
申请号: 201010537220.X 申请日: 2010-11-05
公开(公告)号: CN102152632A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 陈振方;格雷戈里·德布拉邦德 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14;B41J2/16
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 流体 喷射器 氧化物 涂层
【权利要求书】:

1.一种流体喷射器,所述流体喷射器包括:

流路体,所述流路体具有第一外表面和相反的第二外表面以及多个流路,每个流路至少从所述第一外表面延伸至所述第二外表面;

第一氧化物层,所述第一氧化物层至少覆盖所述流路中的每一个的内表面和所述流路体的所述第一和第二外表面,其中所述氧化物层具有沿{100}平面变化小于5%的厚度;

具有第一外表面的膜;和

第二氧化物层,所述第二氧化物层涂覆在所述膜的所述第一外表面上,其中所述第二氧化物层具有沿{100}平面变化小于5%的厚度,并且其中使所述第二氧化物层与所述第一氧化物层结合。

2.根据权利要求1所述的流体喷射器,其还包括喷嘴板,所述喷嘴板具有第一外表面和在所述喷嘴板的所述第一外表面上涂覆的第三氧化物层,其中所述第三氧化物层具有变化小于5%的厚度,并且其中使所述第三氧化物层与所述第一氧化物层结合。

3.根据权利要求1所述的流体喷射器,其中所述第一和第二氧化物层具有在约0.1μm至5μm之间的厚度。

4.根据权利要求3所述的流体喷射器,其中所述厚度小于约2μm。

5.根据权利要求1所述的流体喷射器,其中所述第一和第二氧化物层各自具有大于约2.0g/cm3的密度。

6.根据权利要求5所述的流体喷射器,其中所述第一和第二氧化物层各自具有大于约2.2g/cm3的密度。

7.根据权利要求1所述的流体喷射器,其中所述流路体包含硅。

8.根据权利要求1所述的流体喷射器,其中所述膜包含单晶硅。

9.根据权利要求1所述的流体喷射器,其中所述第一和第二氧化物层包含氧化硅。

10.根据权利要求1所述的流体喷射器,其中所述第一和第二氧化物层各自具有变化小于3%的厚度。

11.一种形成流体喷射器的方法,所述方法包括:

在膜的至少一个表面上形成第一热氧化物层;

在流路体的至少一个表面上形成第二热氧化物层,所述流路体包括多个流路;以及

将所述第一热氧化物层与所述第二热氧化物层结合。

12.根据权利要求11所述的方法,其中所述的将所述第一热氧化物层与所述第二热氧化物层结合包括形成氧化物-氧化物结合。

13.根据权利要求11所述的方法,其中形成所述第二氧化物层包括沿每个流路的壁形成热氧化物层。

14.根据权利要求13所述的方法,其中所述第二氧化物层具有沿{100}平面变化小于5%的厚度。

15.根据权利要求14所述的方法,其还包括在喷嘴板的至少一个表面上形成第三氧化物层,并且使所述第三氧化物层与所述第二氧化物层结合。

16.根据权利要求11所述的方法,其中所述结合在高于约1000℃的温度发生。

17.根据权利要求16所述的方法,其中所述温度在约1200℃至1300℃之间。

18.根据权利要求11所述的方法,其中所形成的热氧化物层都在约0.1μm至5μm厚之间。

19.根据权利要求18所述的方法,其中形成的热氧化物层小于约2μm厚。

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