[发明专利]LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂

权利要求书

1.LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括下列组成部分：

有机溶剂    5％～10％

有机碱      2％～5％

表面活性剂  5％～10％

无机盐      5～20％

去离子水    余量，

其中，所说的有机溶剂为烷烃、环烷烃或芳香烃溶剂；所说的有机碱为多羟多胺、胺碱、羟胺或醇胺，所说的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、多元醇酯和高分子及元素有机化合物中的一种或多种，所说的无机盐是碱性盐。

2.根据权利要求1所说的LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，所说的芳香烃溶剂为正己烷、环己烷、煤油、苯或二甲苯。

3.根据权利要求1所说的LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，所说的聚氧乙烯醚为烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸酯聚氧乙烯醚、脂肪胺聚氧乙烯醚或脂肪醇胺聚氧乙烯醚。

4.根据权利要求1所说的LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，所说的多元醇酯为乙二醇酯、甘油酯或聚氧乙烯多元醇酯。

5.根据权利要求1所说的LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，所说的高分子及元素有机化合物为环氧丙烷均聚物、元素有机系聚醚或聚氧乙烯无规共聚物。

6.根据权利要求1所说的LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，所说的碱性盐为碳酸钠、碳酸氢钠、正硅酸钠、正磷酸钠、三聚磷酸钠或六偏磷酸钠。

7.根据权利要求1—6中任意一项所述的LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括下列组成部分：

10％的正己烷；

3％的三乙醇胺；

10％的正硅酸钠；

3％的环氧乙烷和高级脂肪醇的缩合物（JFC） R-O(C₂H₄O)_nH；

1％的脂肪醇聚氧乙烯（20）醚（平平加O－20）RO(CH₂CH₂O)₂₀H，R=C_12-18H_25-37；

1％的乙二胺四乙酸二钠盐（EDTA）；

72％的去离子水。