[发明专利]真空蒸镀装置、真空蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法无效
申请号: | 201010539611.5 | 申请日: | 2010-11-09 |
公开(公告)号: | CN102061445A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 三宅龙也;玉腰武司;石原慎吾;松浦宏育;峰川英明 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54;H01L51/56;H01L21/77 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 张敬强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 装置 方法 有机 el 显示装置 制造 | ||
1.一种真空蒸镀装置,其在内部排气而维持在真空状态的蒸镀室内,具备通过蒸镀而在以掩膜覆盖表面的被处理基板的表面形成薄膜的真空蒸镀部,具有在维持为真空的环境中将上述被处理基板在另一真空空间内交接的被处理基板交接部,其特征在于,
上述真空蒸镀部具有:将通过线状配置的多个喷嘴而蒸发了的材料向上述蒸镀室内喷出的蒸发头部;设置于上述蒸镀室外且使蒸发材料气化的蒸发源;以利用上述掩膜覆盖上述被处理基板的状态而将其保持的基板保持部,
上述蒸发头部与上述蒸发源以具有蒸镀室内配管与蒸镀室外配管的配管连接,上述蒸镀室内配管为柔软的配管,
具有使上述蒸发头部沿与上述线状配置的多个喷嘴的排列方向垂直的方向扫掠的蒸发头部移动机构。
2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于,
使用真空用蛇腹管真空遮断上述蒸发头部移动机构,
能够在大气侧驱动上述配管的加热及冷却机构与移动机构。
3.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于,
在上述被处理基板与上述蒸发头部之间,配置用于防止由蒸发头部及真空用蛇腹管产生的杂质向上述被处理基板侧飞散的间壁及金属粉吸附用磁铁。
4.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于,
在连接上述蒸发源与上述蒸发头部的配管上具有阀门和压力计与能够计测从上述蒸发头部的喷嘴喷出的有机材料的量的膜厚计,具有使用上述压力计与上述膜厚计的数据,控制上述阀门的开关及上述蒸发源的温度的单元。
5.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于,
在上述蒸镀室内,具备两个以上通过蒸镀而在由掩膜覆盖表面的被处理基板的表面形成薄膜的基板保持部,具有向上下及左右驱动上述蒸发头部的单元。
6.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于,
具有两个以上上述蒸发源,上述两个以上的蒸发源通过上述配管与上述蒸发头部连接。
7.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于,
在上述配管上连接有真空排气泵。
8.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于,
具有多组上述蒸发头部、上述蒸发源及连接上述蒸发头部与上述蒸发源的上述配管的组合,上述蒸发头部、上述蒸发源及连接上述蒸发头部与上述蒸发源的上述配管的各组合能够分别地驱动。
9.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于,
上述被处理基板由上述基板保持部垂直地保持。
10.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于,
上述被处理基板由上述基板保持部水平地保持。
11.一种真空蒸镀方法,在蒸镀室中、在真空中将蒸镀材料蒸镀到被处理基板上,其特征在于,
将上述蒸镀材料配置于在上述蒸镀室外设置的蒸发源室内,
通过加热上述蒸发源室,使上述蒸镀材料蒸发,
在上述蒸发室内配置具有线状排列的多个喷嘴的蒸发头部,
以柔软的配管连接上述蒸发头部与上述蒸发源室,
通过使上述蒸发头部沿与上述多个喷嘴的排列方向垂直的方向移动,而将上述蒸镀材料蒸镀到上述被处理基板上。
12.根据权利要求11所述的真空蒸镀方法,其特征在于,
上述柔软的配管包括由不锈钢400系或耐蚀镍基合金或耐蚀超清净度不锈钢(SUMICLEAN)M形成的蛇腹结构。
13.一种通过密封基板密封形成有薄膜晶体管及有机EL层的TFT基板的有机EL显示装置的制造方法,其特征在于,
将形成有薄膜晶体管的TFT基板配置于蒸镀室内,
将用于形成上述有机EL层的蒸镀材料配置于在上述蒸镀室外设置的蒸发源室内,
通过加热上述蒸发源室,使上述蒸镀材料蒸发,
在上述蒸镀室内配置具有线状排列的多个喷嘴的蒸发头部,
以柔软的配管连接上述蒸发头部与上述蒸发源室,
通过使上述蒸发头部沿与上述多个喷嘴的排列方向垂直的方向移动,而将上述蒸镀材料蒸镀到上述被处理基板上,从而形成上述有机EL层。
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