[发明专利]显示装置及其制造方法有效
申请号: | 201010540145.2 | 申请日: | 2010-11-11 |
公开(公告)号: | CN102097451A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 吉永秀树 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 杨小明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,包括:
基板;
显示区域,在所述显示区域中,多个发光元件设置在所述基板上;
覆盖所述显示区域的有机保护膜;和
覆盖所述有机保护膜的无机保护膜;
该显示装置具有:
布置了多个沟槽并且设置了所述有机保护膜的区域,所述多个沟槽沿所述显示区域的轮廓被布置以沿与所述显示区域的轮廓相交的方向延伸,所述有机保护膜被设置为覆盖所述沟槽;和
没有设置沟槽和有机保护膜的区域,所述没有设置沟槽和有机保护膜的区域在布置了沟槽的区域周围。
2.根据权利要求1的显示装置,其中,所述沟槽的宽度为5μm~100μm。
3.根据权利要求1的显示装置,其中,所述沟槽之间的间隔为5μm~10μm。
4.根据权利要求1的显示装置,其中,没有设置沟槽的区域中的最外表面包含无机材料。
5.一种显示装置的制造方法,包括以下的步骤:
形成显示区域,在所述显示区域中,多个发光元件设置在基板上;
沿所述显示区域的轮廓形成多个沟槽以使所述沟槽沿与所述显示区域的轮廓相交的方向延伸到预先确定的位置;
形成覆盖所述显示区域的有机保护膜;和
形成覆盖所述有机保护膜的无机保护膜;
其中,形成所述有机保护膜的步骤是通过涂覆有机保护膜材料形成有机保护膜的步骤,并且包括以下的子步骤:
涂覆有机保护膜材料,使得其端部位于所述沟槽之上;和
使有机保护膜材料散布到所述预先确定的位置。
6.根据权利要求5的显示装置的制造方法,其中,形成沟槽的步骤使用光刻法。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的