[发明专利]折射率分布测量方法和折射率分布测量装置

权利要求书

1.一种折射率分布测量方法，包括：

第一测量步骤，用于将被检物置于第一介质中并使基准光入射到所述被检物以测量所述被检物的第一透射波前，所述第一介质的折射率低于所述被检物的折射率；

第二测量步骤，用于将所述被检物置于第二介质中并使基准光入射到所述被检物以测量所述被检物的第二透射波前，所述第二介质的折射率比所述被检物的折射率低并且与所述第一介质的折射率不同；以及

计算步骤，用于计算所述被检物的内部折射率分布，

其特征在于，当在所述第一测量步骤中入射到所述被检物的基准光中，入射到所述被检物的远离所述被检物的位于光轴上的中心部分的周边部分并穿过所述被检物的某一点的光线被定义为第一光线，并且在所述第二测量步骤中入射到所述被检物的基准光中，入射到所述周边部分并穿过所述某一点的光线被定义为第二光线时，

在所述第一测量步骤和所述第二测量步骤中，所述方法使得所述第一光线和所述第二光线沿相互不同的方向行进，以改变所述基准光的数值孔径，使得与入射到所述被检物之前的基准光相比，透过所述被检物之后的基准光更接近于准直光，并且，

其特征在于，在所述计算步骤中，所述方法通过使用所述被检物的分别沿所述第一光线和所述第二光线的几何厚度计算所述被检物的有效厚度，并通过使用在所述第一测量步骤和所述第二测量步骤中测量的所述第一透射波前和所述第二透射波前以及计算的所述有效厚度计算内部折射率分布。

2.根据权利要求1的折射率分布测量方法，其中，在所述第一测量步骤和所述第二测量步骤中，所述方法改变数值孔径，使得透过所述被检物之后的基准光的部分光更接近于准直光，所述部分光对应于所述基准光的有效直径的光轴侧50％内的光分量。

3.一种光学元件制造方法，所述方法包括：

模制所述光学元件的形成步骤；和

评估所述光学元件的评估步骤，

其特征在于，在所述评估步骤中，所述方法通过使用根据权利要求1的折射率分布测量方法测量所述光学元件的内部折射率分布。

4.一种折射率分布测量装置，包括：

测量部件，被配置为执行第一测量和第二测量，所述第一测量使基准光入射到被置于第一介质中的被检物以测量所述被检物的第一透射波前，所述第一介质的折射率低于所述被检物的折射率，所述第二测量使基准光入射到被置于第二介质中的所述被检物以测量所述被检物的第二透射波前，所述第二介质的折射率比所述被检物的折射率低并且与所述第一介质的折射率不同；以及

计算部件，被配置为计算所述被检物的内部折射率分布，

其特征在于，当在所述第一测量中入射到所述被检物的基准光中，入射到所述被检物的远离所述被检物的位于光轴上的中心部分的周边部分并穿过所述被检物的某一点的光线被定义为第一光线，并且在所述第二测量中入射到所述被检物的基准光中，入射到所述周边部分并穿过所述某一点的光线被定义为第二光线时，

所述测量部件被配置成使得所述第一光线和所述第二光线沿相互不同的方向行进，以改变所述基准光的数值孔径，使得与入射到所述被检物之前的基准光相比，透过所述被检物之后的基准光更接近于准直光，并且，

其特征在于，所述计算部件被配置成通过使用所述被检物的分别沿所述第一光线和所述第二光线的几何厚度计算所述被检物的有效厚度，并通过使用在所述第一测量和所述第二测量中测量的所述第一透射波前和所述第二透射波前以及计算的所述有效厚度计算内部折射率分布。