[发明专利]一种双摆式交流永磁同步主轴电机无效
申请号: | 201010543477.6 | 申请日: | 2010-11-13 |
公开(公告)号: | CN102394545A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 尚立库;张锐;张宗强 | 申请(专利权)人: | 西安合升动力科技有限公司 |
主分类号: | H02K21/14 | 分类号: | H02K21/14;H02K11/00;H02P6/16 |
代理公司: | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人: | 杨世兴 |
地址: | 710075 陕西省西安*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 摆式 交流 永磁 同步 主轴电机 | ||
技术领域
本发明涉及一种主轴电机,特别涉及一种双摆式交流永磁同步主轴电机。
背景技术
目前,通过机器电机与摆轴连接后,实现一定的特定功能,但现在,机器电机与摆轴间是通过复杂的机构进行连接的,这种复杂机构运行起来非常不方便,经常发生故障,为实际的生产以及使用时的维修带来了很大的不便,如果能研究一种将机器电机与摆轴简单连接,又能够完成相应的功能,是摆在相关技术领域人们面前一道亟待解决的问题。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术中的不足,提供一种双摆式交流永磁同步主轴电机。本发明结构简单、可靠,且使用方便、稳定性和有效性强、生产成本低,便于推广使用。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种双摆式交流永磁同步主轴电机,包括外壳、旋转轴、定子组件、永磁转子组件、编码器、前端盖和后端盖,所述外壳连接有壳体一,所述前端盖安装在壳体一的前端,所述后端盖安装在外壳的后端,所述旋转轴设置在外壳和壳体一的内部且通过轴承一和轴承二分别与壳体一和后端盖连接,所述定子组件设置在外壳内壁,所述永磁转子组件安装在旋转轴上,所述编码器安装在旋转轴的后端且所述编码器与外接驱动器相连接,其特征在于:所述壳体一的下方设置有壳体二,所述壳体二内设置有摆轴,所述摆轴与旋转轴相垂直,且所述摆轴在旋转轴的带动下能在壳体二内反复摆动。
上述的一种双摆式交流永磁同步主轴电机,所述编码器上设置有护罩。
上述的一种双摆式交流永磁同步主轴电机,所述摆轴位于壳体二的中心位置。
本发明与现有技术相比具有以下优点:本发明结构简单、可靠,且使用方便、稳定性和有效性强、生产成本低,便于推广使用。其能够在小于360°内高速摆动,因此可以直接驱动摆轴,去掉了目前机器电机与摆轴间复杂机构,使设备结构更加简单可靠。双摆交流永磁同步主轴电机旋转轴末端安装的编码器可以给外接驱动器提供准确的旋转轴位置信息,使得摆轴摆动的精度更高。双摆交流永磁同步主轴电机在外接驱动器的控制下,可以实现无级连续调速,适应不同场合的使用,无需增加调速机构。所述编码器上设置有护罩,有效的保护编码器,避免受损。
下面通过附图和实施例,对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图。
附图标记说明:
1-前端盖; 2-壳体一; 3-轴承一;
4-外壳; 5-定子组件; 6-永磁转子组件;
7-旋转轴; 8-编码器; 9-后端盖;
10-轴承二; 11-壳体二; 12-摆轴。
具体实施方式
如图1所示的一种双摆式交流永磁同步主轴电机,包括外壳4、旋转轴7、定子组件5、永磁转子组件6、编码器8、前端盖1和后端盖9,所述外壳4连接有壳体一2,所述前端盖1安装在壳体一2的前端,所述后端盖9安装在外壳4的后端,所述旋转轴7设置在外壳4和壳体一2的内部且通过轴承一3和轴承二10分别与壳体一2和后端盖9连接,所述定子组件5设置在外壳4内壁,所述永磁转子组件6安装在旋转轴7上,所述编码器8安装在旋转轴7的后端且所述编码器8与外接驱动器相连接,所述壳体一2的下方设置有壳体二11,所述壳体二11内设置有摆轴12,所述摆轴12与旋转轴7相垂直,且所述摆轴12在旋转轴7的带动下能在壳体二11内沿与旋转轴7的轴向相垂直的方向摆动。所述编码器8上设置有护罩。所述摆轴12位于壳体二11的中心位置。
本发明所述一种双摆式交流永磁同步主轴电机能够在小于360°内高速摆动,因此可以直接驱动摆轴12,去掉了目前机器电机与摆轴12间复杂机构,使设备结构更加简单可靠。旋转轴7上安装的编码器8可以给外接驱动器提供准确的旋转轴7位置信息,使得摆轴12摆动的精度更高。双摆交流永磁同步主轴电机在外接驱动器的控制下,可以实现无级连续调速,适应不同场合的使用,无需增加调速机构。所述编码器8上设置有护罩,有效的保护编码器8,避免受损。所述摆轴12位于壳体二11的中心位置,使得摆轴12在壳体11内能获得更大的摆动空间。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例,并非对本发明作任何限制,凡是根据本发明技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变换,均仍属于本发明技术方案的保护范围内。
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