[发明专利]增加铁素体氮碳共渗处理的铸铁基体的耐腐蚀性的方法有效

专利信息
申请号: 201010544115.9 申请日: 2010-09-30
公开(公告)号: CN102031481A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: M·D·汉娜;M·L·霍利 申请(专利权)人: 通用汽车环球科技运作公司
主分类号: C23C8/32 分类号: C23C8/32;C23C8/80;F16D65/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 薛峰;谭祐祥
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 增加 铁素体氮碳共渗 处理 铸铁 基体 腐蚀性 方法
【说明书】:

技术领域

发明的领域总体涉及使铁素体氮碳共渗的铸铁基体更耐腐蚀的方法。

背景技术

机动车盘式制动器系统在每个相应的车轮上使用盘式制动盘,其中盘式制动盘通常包括用于连接到机动车的转动轴的轴毂的盘帽,以及与盘帽连接的至少一个环形盘面,其中至少一个盘面具有一对相对的制动表面,当希望制动时选择地将刹车片应用到该表面上。

通常,制动盘制成实心或设置内部通孔。通常由铁基合金铸成,特别是铸铁,例如灰铸铁(G3000)和阻尼铸铁(G1800)。铸铁盘铸成接近的形状,并且在铸造之后机加工至要求形状。铸铁盘的缺点在于,相对于其它传统材料它们具备的耐腐蚀性不足。冬季气候和在路面上使用盐会使情况更糟。

为了补救铸铁盘的腐蚀问题,已经开发了铁素体氮碳共渗(FNC)方法来防止摩擦表面在操作期间的腐蚀。但是,已被接受的非摩擦表面上的FNC表面暴露于潮湿环境之后仍易于腐蚀。

发明内容

实施例提供了一种不需要增加涂层或油漆而改善FNC铸铁基体耐腐蚀性的方法。示例的方法去除一部分应用到铸铁基体的FNC涂层,优选通过抛光来露出化合物区域的ε(epsilon)相部分。与未抛光的FNC铸铁基体相比,ε相部分被认为提供了改善的耐腐蚀性。

可具有根据上述方法改善的耐腐蚀性的一个示例性产品为具有FNC处理的制动盘。

本发明的其它示例性实施例将通过以下提供的详细描述变得明显。应该理解,在公开本发明示例性实施例的详细描述和特殊示例仅仅用于举例,并不能限定本发明的范围。

本发明还提供了以下解决方案:

1、一种改善铸铁基体的耐腐蚀性的方法,包括氮碳共渗表面处理,所述方法包括:

对所述铸铁基体的外表面应用所述氮碳共渗表面处理到预定深度,应用的氮碳共渗表面处理包括具有从所述外表面延伸的预定深度的化合物区域;以及

去除所述化合物区域的所述预定深度的一部分,以露出主要ε相部分。

2、根据解决方案1所述的方法,其中去除所述化合物区域的一部分包括研磨所述化合物区域。

3、根据解决方案2所述的方法,其中研磨所述化合物区域包括使用具有约1微米直径的金刚石颗粒的金刚石研磨膏研磨所述化合物区域。

4、根据解决方案1所述的方法,其中去除所述化合物区域的一部分包括抛光所述化合物区域。

5、根据解决方案4所述的方法,其中抛光所述化合物区域包括使用具有约1微米直径的金刚石颗粒的金刚石研磨膏抛光所述化合物区域。

6、根据解决方案1所述的方法,其中去除所述化合物区域的一部分包括修整所述化合物区域。

7、根据解决方案6所述的方法,其中修整所述化合物区域包括使用具有约1微米直径的金刚石颗粒的金刚石研磨膏修整所述化合物区域。

8、根据解决方案1所述的方法,其中所述主要ε相部分位于离所述氮碳共渗表面处理的外表面大约2到6微米之间处,其中所述预定深度在大约10到20微米之间。

9、一种包括根据解决方案1所述的方法形成的铸铁基体的产品。

10、根据解决方案9所述的方法,其中所述产品包括制动盘。

11、根据解决方案10所述的方法,其中去除一部分所述化合物区域的所述预定深度以露出主要ε相部分,包括去除一部分所述制动盘非摩擦表面的所述化合物区域的所述预定深度,以露出主要ε相部分。

12、根据解决方案11所述的方法,其中所述非摩擦表面包括制动盘的帽部。

13、一种改善制动盘的耐腐蚀性的方法,所述方法包括:

对所述制动盘的外表面应用氮碳共渗表面处理到预定深度,所述应用的氮碳共渗表面处理形成了具有从所述外表面延伸的预定深度的化合物区域;以及

去除一部分所述制动盘非摩擦区域内的所述化合物区域的所述预定深度,以露出主要ε相部分。

14、根据解决方案13所述的方法,其中去除一部分所述非摩擦区域内的所述化合物区域包括研磨、修整或抛光所述化合物区域,以露出主要ε相部分。

15、根据解决方案14所述的方法,其中研磨、修整或抛光所述化合物区域包括使用具有约1微米直径的金刚石颗粒的金刚石研磨膏研磨所述化合物区域。

16、根据解决方案14所述的方法,其中研磨、修整或抛光所述化合物区域包括使用具有约1微米直径的金刚石颗粒的金刚石研磨膏修整所述化合物区域。

17、根据解决方案14所述的方法,其中研磨、修整或抛光所述化合物区域包括使用具有约1微米直径的金刚石颗粒的金刚石研磨膏抛光所述化合物区域。

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