[发明专利]二氧化硅颗粒及其制造方法有效
申请号: | 201010546805.8 | 申请日: | 2010-11-11 |
公开(公告)号: | CN102295292A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | 钱谷优香;吉川英昭;奥野広良;野崎骏介;川岛信一郎;竹内荣 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | C01B33/18 | 分类号: | C01B33/18 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二氧化硅 颗粒 及其 制造 方法 | ||
1.一种二氧化硅颗粒,所述二氧化硅颗粒包含一次颗粒,所述一次颗粒的体积平均粒径为80nm~300nm、粒径分布指数为1.10~1.40、平均圆形度为0.70~0.92且圆形度分布指数为1.05~1.50,所述二氧化硅颗粒包含的圆形度为0.95以上的一次颗粒的比例以颗粒数计为10%以下。
2.如权利要求1所述的二氧化硅颗粒,其中,所述二氧化硅颗粒的表面经疏水化处理。
3.如权利要求2所述的二氧化硅颗粒,其中,通过使用疏水化处理剂进行疏水化处理,所述疏水化处理剂包括具有烷基的有机硅化合物。
4.如权利要求3所述的二氧化硅颗粒,其中,所述有机硅化合物是选自由硅氮烷化合物和硅烷化合物组成的组中的至少一种。
5.如权利要求3所述的二氧化硅颗粒,其中,所述有机硅化合物包含三甲基硅烷基。
6.如权利要求5所述的二氧化硅颗粒,其中,包含三甲基硅烷基的所述有机硅化合物包括三甲基甲氧基硅烷或六甲基二硅氮烷。
7.如权利要求3所述的二氧化硅颗粒,其中,所述疏水化处理剂的量相对于所述二氧化硅颗粒为1重量%~100重量%。
8.一种二氧化硅颗粒的制造方法,所述方法包括:
提供碱性催化剂溶液,所述溶液在包含醇的溶剂中含有浓度为0.6mol/L~0.85mol/L的第一碱性催化剂;和
向所述碱性催化剂溶液提供四烷氧基硅烷和第二碱性催化剂,
所述四烷氧基硅烷以相对于所述醇为0.002mol/(mol·分钟)~小于0.006mol/(mol·分钟)的供给速率提供,相对于所述碱性催化剂溶液中的1mol所述醇,所述供给速率对应于每分钟0.002mol~小于0.006mol的量;和
所述第二碱性催化剂以相对于每分钟提供的1mol所述四烷氧基硅烷的总供给量为每分钟0.1mol~0.4mol的量提供。
9.如权利要求8所述的二氧化硅颗粒的制造方法,其中,所述包含醇的溶剂是包含醇和选自由水、酮、溶纤剂和醚组成的组中的至少一种溶剂的混合溶剂。
10.如权利要求9所述的二氧化硅颗粒的制造方法,其中,所述醇的量相对于所述至少一种溶剂为80重量%以上。
11.如权利要求8所述的二氧化硅颗粒的制造方法,其中,所述第一碱性催化剂是选自由氨、脲、一元胺和季铵盐组成的组中的至少一种。
12.如权利要求8所述的二氧化硅颗粒的制造方法,其中,所述四烷氧基硅烷是选自由四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷和四丁氧基硅烷组成的组中的至少一种。
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