[发明专利]4-(2,3,5,6-四氟-R取代基苯乙基)苯甲酸-4’-氟-4-联苯酯的含氟液晶有效

专利信息
申请号: 201010547224.6 申请日: 2010-11-17
公开(公告)号: CN102031120A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 闻建勋;孙冲;荣园园;秦川;田瑞文 申请(专利权)人: 上海天问化学有限公司
主分类号: C09K19/20 分类号: C09K19/20;C07C69/78;C07C67/14;G02F1/1333
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 邬震中
地址: 200232*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 取代 乙基 苯甲酸 联苯 液晶
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种含氟液晶,具体地说是一种名称为4-(2,3,5,6-四氟-R取代苯乙基)苯甲酸-4′-氟-4-联苯酯的含氟液晶。

技术领域

液晶显示器(LCDs)作为计算器及数字钟表的显示器件,最初出现在20世纪70年代的初期。从字处理机(word processor)及个人文字助理(PDAs)到笔记本电脑、台式电脑及电视正在普及到我们的日常生活之中。LCD工业正在成长为巨大的产业。对薄膜晶体管液晶显示器(TFT LCDs)而言,为了要在电视机市场站稳脚跟而且不断扩大市场占有份额,它的动画的清晰度、高亮度以及高速响应是非常重要的。

对于应用于LCD的液晶,它应当具有良好的化学稳定性、光化学稳定性、热稳定性,以及抗电场及电磁干扰的良好稳定性。另外,它应当具有低黏度、低阈值电压、高对比度,而且工作温度在室温上下尽可能要宽。由于必须与其它的成分混合使用,它应该具有良好的混溶性。简而言之,对于高品质的LCD,液晶必须具备合适的物理性质:宽的向列相温度范围、高的电阻率、合适的双折射系数以及高的介电各向异性。本发明人同时申请了发明名称为“对烷基取代-四氟苯乙酸、合成方法以及用途”的发明专利,为合成本发明的具有烷基取代的四氟苯基亚乙基的含氟液晶提供了可能。

发明内容

本发明目的是提供一种具有烷基取代的四氟苯基亚乙基的含氟液晶,进一步说是提供一种名称为4-(2,3,5,6-四氟-正丙基苯乙基)苯甲酸-4′-氟-4-联苯酯的含氟液晶。

本发明目的还提供一种上述的4-(2,3,5,6-四氟-正丙基苯乙基)苯甲酸-4′-氟-4-联苯酯的含氟液晶的合成方法。

本发明另一目的是提供一种上述的4-(2,3,5,6-四氟-正丙基苯乙基)苯甲酸-4′-氟-4-联苯酯的含氟液晶的用途。本发明的4-(2,3,5,6-四氟-正丙基苯乙基)苯甲酸-4′-氟-4-联苯酯的含氟液晶具有宽的向列相温度范围,可能具有低黏度及高的电阻率,可以用作TFT液晶的组分,使液晶材料的性质得到改善。

本发明的4-(2,3,5,6-四氟-R取代基苯乙基)苯甲酸-4′-氟-4-联苯酯的含氟液晶具有如下的结构式:

其中,R为C2-6的烷基。

本发明的合成方法,可以采用合成反应路线如下:

其中R1为C1-5的烷基,R为C2-6的烷基

a)Mg,THF;CnH2nO,四氢呋喃;b)P2O5,C6H14;c)H2,Pd/C(5%);d)K2CO3,NCCH2COOEt,N-甲基吡咯烷酮;e)NaOH,H2O;f,g)SOCl2;AlCl3,苯;h)Et3SiH,CF3COOH;i)AlCl3,ClCOCOCl,CH2Cl2;j)4′-氟-4-联苯酚Et3N,CH2Cl2

本发明的方法可以进一步描述如下,通过如下的步骤(1)-(4)获得:

(1)氯化亚砜和2,3,5,6-四氟-4-R基苯乙酸在回流温度下反应0.5~1小时,获得2,3,5,6-四氟-4-R基苯乙酰氯,此产物与三氯化铝在有机溶剂中0~5℃反应0.5~1小时得到2-(2,3,5,6-四氟-4-R基苯基)苯乙酮;2,3,5,6-四氟-4-R基苯乙酸与三氯化铝的摩尔比为1∶1.3~2;

(2)室温下,上述产物2-(2,3,5,6-四氟-4-R基)苯乙酮与三乙基硅烷在三氟乙酸中反应12-24小时后得到2-(2,3,5,6-四氟-4-R基苯)乙基苯,2-(2,3,5,6-四氟-4-R基苯)苯乙酮与三乙基硅烷的摩尔比为1∶2.5~4;

(3)在0-10℃条件下和有机溶剂中,三氯化铝、草酰氯和2-(2,3,5,6-四氟-4-R基)乙基苯反应1.5~2小时,得到2-(2,3,5,6-四氟-4-R基)乙基苯甲酰氯;所述的2-(2,3,5,6-四氟-4-R基苯)乙基苯、三氯化铝、与草酰氯的摩尔比为1∶1.3~2∶1.5~2;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海天问化学有限公司,未经上海天问化学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010547224.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top