[发明专利]通过铝铸造制成的真空处理室

权利要求书

1.一种用于制造真空处理室的方法，所述真空处理室包括由壁界定并可被抽空的体积，所述壁是由铝通过铸造而制成，所述壁包括外表面及内表面，所述内表面面对所述体积，其特征在于，所述壁的所述内表面通过研磨而变平滑，并随后经过喷珠或喷丸处理。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，用于所述喷珠或喷丸处理的珠或丸是由选自由玻璃、陶瓷、玻璃陶瓷、氧化铝及纤维化合物组成的群组的材料制成。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，用于所述喷珠或喷丸处理的珠或丸具有200μm至300μm的直径。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，使用喷射系统进行所述喷珠或喷丸处理，所述喷射系统包括口径为5mm至8mm的喷嘴。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述喷嘴的口径为6mm。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，用于所述喷珠或喷丸处理的喷射压力介于3巴至6巴之间。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述喷射压力为5巴。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在喷丸或喷珠处理期间，所述喷嘴与将被进行喷丸或喷珠处理的所述内表面的表面之间的距离介于300mm与500mm之间。

9.一种用于改善真空处理室的壁的内表面的方法，所述真空处理室包括由所述壁界定的体积，所述壁是由铝通过铸造而制成，所述壁包括外表面及所述内表面，所述内表面面对所述体积，其特征在于，所述壁的所述内表面通过研磨而变平滑并随后经过如权利要求2至权利要求8中任一项所述的喷珠或喷丸处理。

10.一种真空处理室，包括由壁界定并可被抽空的体积，所述壁包括内表面及外表面，所述内表面面对所述体积，其特征在于，所述壁的所述内表面已通过研磨而变平滑，并随后经过喷丸或喷珠处理。

11.如权利要求10所述的真空处理室，其特征在于，所述壁的所述内表面已被使用珠或丸进行喷丸或喷珠处理，所述珠或丸是由选自由玻璃、陶瓷、玻璃陶瓷、氧化铝及纤维化合物组成的群组的材料制成。

12.如权利要求10所述的真空处理室，其特征在于，所述壁的所述内表面已被使用直径为200μm至300μm的珠或丸进行所述喷丸或喷珠处理。

13.如权利要求10所述的真空处理室，其特征在于，使用喷射系统进行所述喷珠或喷丸处理，所述喷射系统包括口径为5mm至8mm的喷嘴。

14.如权利要求13所述的真空处理室，其特征在于，所述喷嘴的口径为6mm。

15.如权利要求10所述的真空处理室，其特征在于，用于所述喷珠或喷丸处理的喷射压力介于3巴至6巴之间。

16.如权利要求15所述的真空处理室，其特征在于，所述喷射压力为5巴。

17.如权利要求10所述的真空处理室，其特征在于，在喷丸或喷珠处理期间，所述喷嘴与所述内表面的表面之间的距离介于300mm与500mm之间。