[发明专利]用于粒子光学透镜的轴向像差的校正器

权利要求书

1.一种用于校正粒子光学透镜（100、400）的轴向像差的校正器（104、408），将用带电粒子束（122、424）来照射所述校正器，该校正器包括：

·第一多极（110、302、414），其用于产生第一六极场；

·第二多极（112、304、412），其用于产生第二六极场；

·光学系统，其用于将第一多极成像在第二多极上且用于在所述多极之间形成射束的交叉点；以及

·所述光学系统的放大倍率是负的，

其特征在于：

·用于产生至少一个附加六极场的至少一个附加多极（126、310、500^a、500^b）位于所述第一多极和所述第二多极之间，所述至少一个附加多极在工作时没有被成像在所述第一和所述第二多极上，所述至少一个附加六极场适合于校正所述校正器的六重像散A5或所述校正器的第六阶三叶像差D6。

2.如权利要求1所述的校正器，其中，所述至少一个附加多极是用于产生一个附加六极场的一个多极（126、310），所述附加六极场在空间上与所述交叉点重叠。

3.如权利要求1所述的校正器，其中，所述至少一个附加多极是用于产生两个附加六极场的两个多极（500^a、500^b），所述两个附加多极中的一个（500^a）位于所述交叉点与所述第一多极（414）之间且另一附加多极（500^b）位于所述交叉点与所述第二多极（412）之间。

4.如前述权利要求中的任何一项所述的校正器，其中，所述光学系统包括圆透镜（106、108、410、600、700）。

5.如前述权利要求中的任何一项所述的校正器，其中，所述多极是静电多极（302、304、310）。

6.如前述权利要求中的任何一项所述的校正器，其中，所述光学系统是静电光学系统。

7.如前述权利要求中的任何一项所述的校正器，其中，所述校正器还包括用于产生位于第一与第二多极之间的双极和/或四极场和/或六极场的多极，用于校正寄生像差，包括机械失准。

8.如前述权利要求中的任何一项所述的校正器，其中，所述透镜系统包括用于形成交叉点并用于将所述第一多极成像在所述第二多极上的仅一个厚透镜（302、306、310、308、304）。

9.如权利要求1～7中的任一项所述的校正器，其中，所述光学系统包括单个透镜（416、808），并且其中，所述第三多极在空间上与所述单个透镜重叠。

10.如权利要求9所述的校正器，其中，所述单个透镜是所谓的双隙透镜（600、700），其结果是各向异性像差被显著减小。

11.一种装配有如前述权利要求中的任何一项所述的校正器的粒子光学装置。

12.如权利要求11所述的粒子光学装置，其中，传递光学装置（114、418）被设置在校正器（104、408）与粒子光学透镜（100、400）之间，所述传递光学装置将第一多极（110、414）和第二多极（112、412）成像在所述粒子光学透镜上，或进行相反操作。

13.如权利要求11或权利要求12所述的粒子光学装置的使用，其中，所述附加多极被激励，以使得所述校正器与在没有激励附加六极的情况下相比表现出较小的A5和/或D6。

14.如权利要求13所述的使用，其中，所述附加多极被激励，以使得A5和/或D6被减小至少80％，更具体而言为95％。

15.如权利要求13所述的使用，其中，所述附加多极被激励，以使得除A5和/或D6之外的像差相比于A5和/或D6占主导地位。