[发明专利]一种对镁合金熔体进行净化的方法

权利要求书

1.一种对镁合金熔体进行净化的方法，镁合金熔体位于坩埚之中，其特征在于：将两块片状或块状泡沫陶瓷分别插入到两个刷有CaO涂料的框架中，并将框架与泡沫陶瓷一起经400℃±20℃预热30～50min，然后以20~50mm/s的速度垂直放入到由氩气保护的镁合金熔体中，以减少框架及泡沫陶瓷孔隙中残留的气体对镁合金熔体的不良影响，开始熔体净化时两个带有泡沫陶瓷的框架在熔体中紧贴在一起，其中一个框架的底部离坩埚底5mm～10mm并在旋转轴的带动下在镁合金熔体中绕坩埚中心轴缓慢旋转，旋转速度以远离旋转轴的竖直框架边的线速度计算，为30~90mm/s，另一个带有泡沫陶瓷的框架则紧靠坩埚内壁和底部并保持静止，以使泡沫陶瓷与镁合金熔体充分接触，作旋转运动的泡沫陶瓷运动到静止的泡沫陶瓷后，根据需要作反方向旋转运动，从而有效清除镁合金熔体中的固体夹杂物和气体，实现镁合金熔体的净化。

2.如权利要求1所述的一种对镁合金熔体进行净化的方法，其特征在于：所述的框架，是采用耐热钢制作的方形结构，其边框采用厚度3~5mm的耐热钢板，边框宽为5mm，中间为开放结构，泡沫陶瓷能方便地从框架上端放入和取出，放入框架中的泡沫陶瓷片或块由边框上搭扣式锁紧机构限制其移动，以防止泡沫陶瓷的上浮和从框架中脱落。

3.如权利要求1所述的一种对镁合金熔体进行净化的方法，其特征在于：所述的泡沫陶瓷，以ZrO₂或者MgO作为基础材料，制作成片状或块状多孔陶瓷材料，该材料中孔隙相互连通，每片（或块）泡沫陶瓷的厚度为10~15mm、宽度比熔化镁合金的坩埚半径小10~15mm、长度比镁合金熔体深度长5~10 mm，孔隙平均尺寸0.6~0.9mm，孔隙率65~75%。

4.如权利要求1所述的一种对镁合金熔体进行净化的方法，其特征在于：所述的旋转轴是一端与调速电机相连，另一端与框架结构的一端相连，并带动框架结构与泡沫陶瓷一起运动的耐热钢制作的轴，轴的表面刷有CaO涂料。

5.如权利要求1所述的一种对镁合金熔体进行净化的方法，其特征在于：所述的坩埚是采用低碳钢制作的旋转体容器，坩埚的顶部带有密封盖，并由密封盖向坩埚内部熔体表面通入惰性气体。