[发明专利]光刻方法和设备

权利要求书

1.一种光刻方法，包括：

控制光刻设备的相调节器的步骤，所述相调节器构造并布置成调节穿过相调节器的光学元件的辐射束的电场的相；和

控制提供给相调节器的导致所述光学元件的一部分的实际的时间-温度特性的信号的步骤，所述信号的控制是使得实际的时间-温度特性的改变领先于所述光学元件的所述部分的想要的时间-温度特性的相关改变。

2.根据权利要求1所述的光刻方法，其中，控制提供给相调节器的导致实际的时间-温度特性的信号的步骤包括使用至少与在想要的时间-温度特性中未来时刻处的想要的时间-温度特性相关的信息。

3.根据权利要求1或2所述的光刻方法，其中，想要的和/或实际的时间-温度特性的改变是想要的时间-温度特性的斜率的改变，包括从正的斜率改变到负的斜率，或从负的斜率改变到正的斜率，或从零斜率改变到负的斜率，或从零斜率改变到正的斜率。

4.根据权利要求3所述的光刻方法，其中，想要的时间-温度特性的斜率的改变和实际的时间-温度特性的相关的且在先的改变都是从正的斜率改变到负的斜率、或从负的斜率改变到正的斜率、或从零斜率改变到负的斜率、或从零斜率改变到正的斜率的改变。

5.根据前述权利要求中任一项所述的光刻方法，其中，想要的时间-温度特性的改变与光刻设备的投影系统的温度的改变相关。

6.根据权利要求5所述的光刻方法，其中，投影系统的温度的改变由光刻设备从空闲状态改变成操作状态的状态的改变引起，或其中投影系统的温度的改变由穿过投影系统的辐射束的剂量和/或分布的改变引起。

7.根据权利要求5或6所述的光刻方法，其中，提供给相调节器的信号至少部分地校正投影系统中由于投影系统的温度的改变引起的像差。

8.根据前述权利要求中任一项所述的光刻方法，其中，提供给相调节器的信号导致光学元件的所述部分的加热或冷却。

9.一种光刻设备，包括：

照射系统，配置用于调节辐射束；

图案形成装置支撑结构，配置用支撑图案形成装置，所述图案形成装置配置用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；

衬底保持装置，配置用于保持衬底；

投影系统，配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；

相调节器，构造并布置用于调节穿过相调节器的光学元件的辐射束的电场的相；和

控制器，构造并布置成在使用时控制提供给相调节器的导致光学元件的一部分的实际的时间-温度特性的信号，所述信号的控制是使得实际的时间-温度特性的改变领先于所述光学元件的所述部分的想要的时间-温度特性的相关改变。

10.如权利要求9所述的光刻设备，其中，所述控制器是以下情况中的一个或多个：

被提供与光学元件的所述部分的想要的时间-温度特性相关的信息；和/或

构造并布置成接收与光学元件的所述部分的想要的时间-温度特性相关的信息；和/或

构造并布置成重新获得与光学元件的所述部分的想要的时间-温度特性相关的信息。

11.如权利要求10所述的光刻设备，其中，所述控制器构造并布置成使用与光学元件的所述部分的想要的时间-温度特性相关的信息以控制提供给相调节器的信号。

12.如权利要求9-11中任一项所述的光刻设备，其中，光学元件包括多个可控制的部分。

13.如权利要求9-12中任一项所述的光刻设备，其中，每个部分设置有加热导线。

14.如权利要求9-13中任一项所述的光刻设备，其中，相调节器包括配置成提供红外辐射的激光器，所述红外辐射在使用时被引导到光学元件的所述部分上。

15.如权利要求14所述的光刻设备，其中，相调节器设置有导向装置，所述导向装置配置成引导红外辐射到光学元件的一个或多个部分上。