[发明专利]一种高功率被动调Q激光器有效
申请号: | 201010553504.8 | 申请日: | 2010-11-22 |
公开(公告)号: | CN102013634A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 吴励;韩晓明;杨建阳;任策;陈卫民 | 申请(专利权)人: | 福州高意通讯有限公司 |
主分类号: | H01S5/30 | 分类号: | H01S5/30;H01S5/04;H01S5/065;H01S5/024 |
代理公司: | 福建炼海律师事务所 35215 | 代理人: | 许育辉 |
地址: | 350001 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 功率 被动 激光器 | ||
1.一种高功率被动调Q激光器,包括阵列半导体泵浦激光器(101)、泵浦耦合系统(102)、激光增益介质(103)和被动调Q晶体(104),其特征在于所述的激光增益介质(103)制作成梯形,所述的激光增益介质(103)的S1面和S2面镜像平行,S1面、S2面与的S3面形成折叠式平行平面谐振腔,S1面与S3面的夹角和S2面与S3面的夹角均为θ角,且θ角大小可调节,被动调Q晶体(104)放置在该折叠式平行平面谐振腔的光路上,形成被动调Q激光腔。
2.如权利要求1所述的一种高功率被动调Q激光器,其特征在于:所述的激光增益介质(103)的S1面镀基波高反膜,S2面镀基波增透膜。
3.如权利要求1所述的一种高功率被动调Q激光器,其特征在于:通过调节θ角大小调节基频光基模体积大小。
4.如权利要求1、2或3所述的一种高功率被动调Q激光器,其特征在于:在激光增益介质(103)的S3面光胶一散热光学件(105),激光增益介质(103)与散热光学件(105)之间的光胶辅助材料的折射率低于激光增益介质(103)的折射率。
5.如权利要求1、2或3所述的一种高功率被动调Q激光器,其特征在于:在激光增益介质(103)的S3面键合一散热光学件(105),散热光学件(105)的折射率低于激光增益介质(103)的折射率,使基波在S3面形成全反射。
6.如权利要求1、2或3所述的一种高功率被动调Q激光器,其特征在于:所述的折叠式平行平面谐振腔,采用的是整体微片式。
7.如权利要求1、2或3所述的一种高功率被动调Q激光器,其特征在于:所述的折叠式平行平面谐振腔,采用的是分离腔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州高意通讯有限公司,未经福州高意通讯有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010553504.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。