[发明专利]化学机械抛光组合物及其相关方法有效
| 申请号： | 201010553984.8 | 申请日： | 2010-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN102061132A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 刘振东;郭毅;K-A·K·雷迪;G·张 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B37/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;周承泽 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 组合 及其 相关 方法 | ||
1.一种化学机械抛光组合物，其包含以下物质作为初始组分：
式I的第一物质
式中R1，R2，R3，R4，R5，R6和R7各自是化学式为-(CH2)n-的桥连基团，其中n是选自1-10的整数，任选地第一物质中的一个或多个氮可以以季氮形式提供，其中氮带正电荷；
式II的第二物质
其中R8，R9，R10，R11和R12选自氢和具有1-6个碳原子的烷基，其中任选地，R8，R9，R10，R11和R12中的两种或更多种结合成环状结构，任选地，所述第二物质中的一个或多个氮可以为季氮形式，其中氮带正电荷；
磨料；和
水。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其特征在于，所述化学机械抛光浆液包含以下物质作为初始组分：0.001-1重量％的第一物质；0.001-5重量％的第二物质；1-40重量％的磨料；和水。
3.如权利要求2所述的化学机械抛光组合物，其特征在于，pH值为2-4。
4.如权利要求3所述的化学机械抛光组合物，其特征在于，所述第一物质是二亚乙基三胺五(甲基膦酸)，所述第二物质是四甲基胍。
5.如权利要求4所述的化学机械抛光组合物，其特征在于，所述磨料是平均粒度为1-50纳米的胶体氧化硅。
6.如权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其特征在于，还包含选自分散剂、表面活性剂、缓冲剂、消泡剂以及生物杀灭剂的另外的添加剂。
7.一种制备化学机械抛光组合物的方法，所述方法包括：
提供式I的第一物质
式中R1，R2，R3，R4，R5，R6和R7各自是化学式为-(CH2)n-的桥连基团，其中n是选自1-10的整数，任选地第一物质中的一个或多个氮可以以季氮形式提供，其中氮带正电荷；
提供式II的第二物质
其中R8，R9，R10，R11和R12选自氢和具有1-6个碳原子的烷基，其中任选地，R8，R9，R10，R11和R12中的两种或更多种结合成环状结构，任选地，所述第二物质中的一个或多个氮可以为季氮形式，其中氮带正电荷；
提供磨料；
提供水；
提供pH调节剂；
将所述第一物质、第二物质、磨料和水混和起来，形成浆液；以及
向所述浆液加入pH调节剂，将所述浆液的pH值调节至＜7。
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