[发明专利]新型光导出结构的制造方法无效
| 申请号： | 201010554521.3 | 申请日： | 2010-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102468379A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 孙智江 | 申请（专利权）人： | 孙智江 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/58;H01L33/14 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 张利强 |
| 地址： | 上海市黄浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 新型 导出 结构 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1. 新型光导出结构的制造方法，其特征在于包括以下步骤：
步骤①，外延片表面形成浅槽隔离；
步骤②，在浅槽隔离上沉积高折射率介质材料；
步骤③，将高折射率介质材料平坦化；
步骤④，控制介高折射率介质材料的形貌，将高折射率介质材料做成凸形透镜式样。
2. 根据权利要求1所述的新型光导出结构的制造方法，其特征在于：所述的高折射率介质材料的折射系数为1.5～2.4。
3. 根据权利要求1所述的新型光导出结构的制造方法，其特征在于：所述的高折射率介质材料为SiO2，或是 SiN，或是ZnO，或是SiON。
4. 根据权利要求1所述的新型光导出结构的制造方法，其特征在于：步骤④所述的控制方法为采用化学机械研磨。
5. 根据权利要求1所述的新型光导出结构的制造方法，其特征在于：步骤④所述的控制方法为回蚀刻。
6. 根据权利要求1所述的新型光导出结构的制造方法，其特征在于：所述的浅槽隔离的厚度为100nm至200nm。
7. 根据权利要求1所述的新型光导出结构的制造方法，其特征在于：步骤④中形成的凸形透镜的形状为圆形。
8. 根据权利要求7所述的新型光导出结构的制造方法，其特征在于：所述的凸形透镜在所述的浅槽隔离外表面处的直径为200nm至600nm。
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