[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用有效
| 申请号： | 201010554731.2 | 申请日： | 2010-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN102464946A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 姚颖;宋伟红;孙展龙 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
1.一种化学机械抛光液，该抛光液包含一种氧化铈磨料颗粒，一种去除速率选择比调节剂，一种阳离子表面活性剂和水。
2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的氧化铈磨料颗粒的粒径为20～150nm。
3.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于：所述的氧化铈磨料颗粒的粒径为60～100nm。
4.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的氧化铈磨料颗粒的用量为质量百分比：0.5～10％。
5.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的去除速率选择比调节剂为：聚丙烯酸及其盐，以及嵌段的聚丙烯酸化合物。
6.如权利要求5所述的抛光液，其特征在于：所述的聚丙烯酸及其盐，以及嵌段的聚丙烯酸化合物的分子量为300～100000。
7.如权利要求6所述的抛光液，其特征在于：所述的聚丙烯酸及其盐，以及嵌段的聚丙烯酸化合物的分子量为2000～10000。
8.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的去除速率选择比调节剂的用量为质量百分比：0.001～0.5％。
9.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的阳离子表面活性剂为：(RN+R1R2R3)X-，其中：R为-CmH2m+1，10≤m≤18，R1，R2和R3相同或不同，为-CH3或-C2H5，X-为Cl-或Br-。
10.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的阳离子表面活性剂的用量为质量百分比：0.001～0.1％。
11.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的抛光液的pH为3～7。
12.如权利要求9所述的抛光液，其特征在于：所述的抛光液的pH为4～6。
13.如权利要求1～12所述抛光液在浅沟槽隔离的抛光中的应用，采用二氧化硅抛光液去除大部分的二氧化硅台阶高度，第二步采用所述抛光液抛光至终点，停止在氮化硅上面形成浅隔离槽。
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