[发明专利]一种防止三硼酸铯生长过程中原料严重挥发的方法无效

专利信息
申请号: 201010555086.6 申请日: 2010-11-22
公开(公告)号: CN102108550A 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 王昌运;吴少凡;陈伟;郑熠 申请(专利权)人: 福建福晶科技股份有限公司
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C30B15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350000 福建省*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 防止 硼酸 生长 过程 原料 严重 挥发 方法
【说明书】:

【技术领域】

发明属于晶体生长领域,具体指一种防止三硼酸铯生长过程中原料严重挥发的方法 

【技术背景】

三硼酸铯(化学式CsB3O5,简称CBO)是硼酸盐中一种新型的非线性晶体,非线性系数和LBO大致相同,紫外波段透光能力优于BBO,抗激光损伤阈值高于BBO,特别在晶体制备上优于BBO和LBO,CBO是同成分熔融化合物,不用采用外加助熔剂,可以有效减少助熔剂带来影响。 

该晶体虽然在某些方面具有比BBO和LBO更好的性能,但是该晶体生长过程由于挥发严重,组分容易偏离,晶体生长困难。 

本发明采用一种简单方法有效降低生长过程中的挥发,晶体稳定生长,得到优质晶体毛坯。 

【发明内容】

本发明的目的是探究一种简单、高效的方法,有效降低晶体生长过程的挥发,晶体稳定生长得到优质晶体毛坯。 

为降低挥发,本发明通过如下方式实现:采用碳酸铯和硼酸为原料,其中铯过量5%(摩尔百分比),于普通硅碳棒炉子900℃条件下熔融反应至原料全部熔解,装入φ60坩埚,坩埚上面盖上一层环状白金片(见图1),然后放入自制的熔盐炉中生长(见图2)。 

本发明优点在于通过设计温场,使得坩埚上面50mm以上温度比坩埚部分温度高,同时在坩埚上面加上环状白金盖片,有效降低挥发,晶体能够稳定生长,得到优质毛坯。因此该方法具有简单、高效特点。 

【附图说明】

图1是环状白金盖片示意图 

图2是自制熔盐炉结构示意图 

【具体实施方式】

实施例一:称取一定量的碳酸铯和硼酸为原料,其中铯过量5%(摩尔百分比),于普通硅碳棒炉子900℃条件下熔融反应至原料全部熔解,装入φ60坩埚,坩埚上面盖上一层特制环状白金片,然后放入自制的熔盐炉中生长,生长结果原料挥发量减少显著,并且得到了较为优质的单晶 。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建福晶科技股份有限公司,未经福建福晶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010555086.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top