[发明专利]图形芯片设计中图形像素生成算法的硬件实现

权利要求书

1.像素测试（筛选），其特征过程为：根据输入像素的横纵坐标（x,y）及透明度（Alpha）分量将超出绘图区或透明度过大以及过小的像素筛选（即剪取测试和Alpha测试）并将满足绘图要求的像素写入FIFO；从上级FIFO中读出像素，根据输入像素横纵坐标（xy）以及深度缓存的起始地址和行宽，读取当前深度缓存中保存的显存中已有3.点距离屏蔽的远近即当前显示像素点的深度值（z）；将读取的深度值与当前输入像素的深度值比较，以判定当前像素是否覆盖当前帧存中已有的像素点（深度测试），如果当前像素通过测试，则将像素传输至权利3并将该像素的深度值（z）回写到深度缓存，将深度测试通过的像素点写入下一级FIFO。

2.像素纹理填充，其特征过程为：从上级FIFO中读出像素，根据输入像素的纹理横纵坐标（s,t）以及纹理缓存的起始地址和行宽，计算出该像素纹理颜色的物理地址，读取出相邻的以纹理坐标周边的四个纹理像素，将四个纹理像素值进行二维插值计算得到当前像素的实际纹理值，完成纹理与像素当前输入像素色度信息（A,R,G,B）的融合，将完成纹理计算与融合的像素写入下一级FIFO。

3.像素透明度融合，其特征过程为：从上级FIFO中读出像素，根据输入像素的横纵坐标（x,y）以及显示缓存的起始地址和行宽，读取当前像素显存对应坐标的已有像素信息，完成透明度（Alpha）融合,并回写更新显存中对应位置的像素信息（A,R,G,B）值。