[发明专利]一维镜像综合孔径辐射成像方法

权利要求书

1.一维镜像综合孔径辐射成像方法，包括以下步骤：

(1)设立一个垂直于天线阵列的反射面，使得被测场景的辐射信号通过两个路径被天线阵列接收，其中第一路径为辐射信号直接被天线阵列接收，第二路径为辐射信号经过反射面反射被天线阵列接收；

(2)天线阵列中每根天线对来自二个路径的辐射信号进行加和，并通过模数转换得到数字辐射信号；

(3)计算两两天线的相关输出R_ij＝E[b_ib_j]，E[b_ib_j]表示第i与第j根天线的数字辐射信号乘积；

(4)利用相关输出，采用方式A或B重建场景亮温图像；

方式A具体如下：

A1.构建相关输出R_ij与余弦可见度CV()的关系方程

R_ij＝CV(x_i-x_j)-CV(x_i+x_j)；

其中，x_i，x_j分别为第i和j根天线与反射面的间距；

A2.改变天线阵列或者反射面位置，重复步骤(2)和(3)构建更多的相关输出R_ij与余弦可见度CV()的关系方程，联立求解得到各方程式中的余弦可见度CV()；

A3.通过反余弦变换重建场景亮温图像

T^(θ)=Δu[CV(0)+2Σn=1NCV(un)cos(2πunsinθ)]un=nΔu]]>

表示场景在θ方位上的亮温，θ表示辐射信号与反射面的夹角，Δu表示天线阵列的相邻天线的最小间距，正整数N取值保证CV(u_n)，n＝1，2，L，N能在步骤A2的求解结果中查询到；

方式B具体如下：

B1.将被测场景区域θ∈[0，π/2]按照角度均匀划分为M个小区域A_k＝{θ|θ∈[π(k-1)/2M，πk/2M]}，θ表示辐射信号与反射面的夹角，，k＝1，2，L，M；令这M个小区域的中心位置表示为θ_k＝π(2k-1)/4M；

B2.计算M个区域的冲激响应向量

gk=R11kR12kΛR1LkR22kR23kΛR2LkΛRLLkT]]>

其中，T表示转置，L表示天线阵列的阵元个数，

第i与j根天线的相关输出采用直接计算得到：x_i，x_j分别为第i和j根天线与反射面的间距，且

或者第i与j根天线的相关输出采用间接计算得到：将参考辐射点源置于纯净背景环境下的θ_k处，按照步骤(1)～(3)方式计算得到相关输出；

B3.利用冲激响应向量重建场景亮温图像T＝G⁺V，G⁺表示冲激响应矩阵G的广义逆矩阵，G＝[g₁ g₂ L g_M]，V＝[R₁₁ R₁₂ Λ R_1L R₂₂ R₂₃ Λ R_2L Λ R_LL]^T，上标T表示转置。