[发明专利]一种利用抛光生成结构型表面的方法

权利要求书

1.一种利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，用户通过在抛光仿真系统中设定抛光参数，并通过抛光仿真系统模拟抛光生成结构型表面，

所述抛光参数包括：抛光策略、表面设计参数、加工参数、抛光头参数、工件材料以及抛光液的配比；

所述抛光仿真系统包括：输入模块、基于模型的仿真系统以及输出模块。

2.根据权利要求1所述的利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，所述输入模块包括：抛光策略设定单元、表面设计参数设定单元、加工参数设定单元、抛光头参数设定单元、工件材料以及抛光液的配比设定单元，用户通过输入模块的上述单元设定抛光参数。

3.根据权利要求2所述的利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，所述基于模型的仿真系统包括表面形貌生成模型，所述基于模型的仿真系统根据输入模块的输入信息和影响结构型表面的纹理生成的因素，计算并得出抛光轨迹以及抛光影响函数，并根据计算结果通过表面形貌生成模型仿真生成抛光工件的表面形貌。

4.根据权利要求3所述的利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，所述输出模块包括：表面生成仿真信息输出单元和表面误差预报信息输出单元，根据基于模型的仿真系统的计算结果输出表面生成仿真信息和表面误差预报信息。

5.根据权利要求3所述的利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，所述影响结构型表面的纹理生成的因素包括：抛光影响函数、抛光路径和策略规划。

6.根据权利要求1所述的利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，所述抛光策略包括：光栅式抛光策略、螺旋式抛光策略、辐射式抛光策略以及随机式抛光策略。

7.根据权利要求6所述的利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，所述抛光策略任意多项规划和组合优化生成新的抛光策略。

8.根据权利要求1所述的利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，对于采用抛光磨头的机械抛光方法，根据Preston原则，其影响函数与抛光头施与工件表面的压力以及两者之间的相对速度的关系，可表示为M_p＝k·P_P·V_P·t_d；

其中M_p是位置点P处的材料去除率，k是Preston系数，P_P是抛光压力，V_P是点P处的相对速率，t_d是抛光驻留时间。

9.根据权利要求8所述的利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，所述参数抛光压力P与抛光接触区的位置r的二维线性曲线形状与高斯(Gaussian)曲线相似，抛光压力曲线可表达为一个修正高斯方程(Modified Gaussian Function)：

10.根据权利要求9所述的利用抛光生成结构型表面的方法，其特征在于，所述参数r＝|PO_b|＝Dtan(α)，c＝0，a＝P_m是抛光接触区中心最大压力，

即：P(α)=Pmexp(-12(Dtan(α)/b)λ),]]>

所述参数α表示在接触区的位置；所述参数b和参数λ由抛光压力、抛光布材料决定。