[发明专利]控制零件表面奥氏体残留的渗碳淬火方法无效

专利信息
申请号: 201010561683.X 申请日: 2010-11-25
公开(公告)号: CN102061480A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 黄来宝;陈运杰;曹志明 申请(专利权)人: 嘉兴市易嘉机械有限公司
主分类号: C23F17/00 分类号: C23F17/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 314000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 控制 零件 表面 奥氏体 残留 渗碳 淬火 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种合金钢渗碳淬火处理方法,尤其涉及一种控制零件表面奥氏体残留的方法。

背景技术

为了适用于特殊的需要,某些零件的表面在渗碳淬火处理后要满足奥氏体残留低于5%的要求。为了达到这一目的,通常采用二次淬火或淬火后冷处理的工艺。二次淬火工艺步骤可表示为:零件清洗→渗碳处理→第一次淬火→清洗→第二次淬火→清洗→回火。淬火后冷处理的工艺步骤可表示为:零件清洗→渗碳处理→淬火→清洗→冷处理→回火。

这些工艺虽能实现将零件表面的奥氏体残留低于5%,但是工艺实际操作较为复杂,条件控制苛刻。

发明内容

本发明的目的是提供一种控制零件表面奥氏体残留的方法,提高零件的适用性能。

一种控制零件表面奥氏体残留渗碳淬火的方法,步骤依次包括:清洗、渗碳、淬火、淬火后清洗和回火。

渗碳条件为750℃-900℃,碳势为0.50%-1.00%。

淬火时油温为40℃-100℃。

本方法可以适用于常用的渗碳淬火合金钢,如:20CrMnTi、20CrMo、20CrNiMo等。此外,还需要对渗碳温度、渗碳碳势与淬火油温精确控制并互相配合应用才能实现零件表面的奥氏体残留低于5%。

本发明技术方案实现的有益效果:

本发明公开了一种控制零件表面奥氏体残留的渗碳淬火方法,步骤依次包括:清洗、在750℃-900℃和0.50%-1.00%碳势条件下渗碳、油温为40℃-100℃条件下淬火、淬火后清洗和回火。经处理后的零件表面的奥氏体残留低于5%。

具体实施方式

以下详细描述本发明的技术方案。

实施例1

清洗20CrMnTi合金钢,在750℃和0.50%碳势条件下渗碳,油温为100℃条件下淬火,淬火后经清洗和回火。之后按QC/T262-1999标准测定,表面奥氏体残留为3.3%。

实施例2

清洗20CrMo合金钢,在750℃和0.70%碳势条件下渗碳,油温为80℃条件下淬火,淬火后经清洗和回火。之后按QC/T262-1999标准测定,表面奥氏体残留为4.6%。

实施例3

清洗20CrNiMo合金钢,在800℃和0.70%碳势条件下渗碳,油温为100℃条件下淬火,淬火后经清洗和回火。之后按QC/T262-1999标准测定,表面奥氏体残留为3.7%。

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