[发明专利]一种用于薄壁平面工件固定的真空吸附装置无效

专利信息
申请号: 201010566830.2 申请日: 2010-11-30
公开(公告)号: CN102476300A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 张华民;马海鹏;刘波 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: B23Q3/06 分类号: B23Q3/06
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 马驰
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 薄壁 平面 工件 固定 真空 吸附 装置
【权利要求书】:

1.一种用于薄壁平面工件固定的真空吸附装置,其特征在于:

包括真空吸附板和密封盖板,真空吸附板具有平整的上表面,于真空吸附板的上表面设有贯穿真空吸附板的n个吸气孔,n≥2正整数;

于真空吸附板的下表面开设有m条互不连通的真空凹槽,每条真空凹槽至少与一个吸气孔相连,真空凹槽与抽真空系统的吸气管相连通,m≥2正整数;密封盖板覆盖于真空吸附板的下表面,将真空凹槽密封;这样就于真空吸附板的上表面形成了m个互不连通的真空吸附区域。

2.按照权利要求1所述真空吸附装置,其特征在于:

于真空凹槽所处的真空吸附板或密封盖板板体壁面上设置有贯穿板体的孔道,孔道一端与一真空凹槽相连,另一端抽真空系统的吸气管相连通,于孔道与吸气管间设有开关阀。

3.按照权利要求1或2所述真空吸附装置,其特征在于:所述抽真空系统为真空泵。

4.按照权利要求1所述真空吸附装置,其特征在于:

所述吸气孔内径向设有环形凸台。

5.按照权利要求1所述真空吸附装置,其特征在于:

所述吸气孔为阶梯状吸气孔,靠近上表面的吸气孔的孔径大于靠近下表面的吸气孔的孔径。

6.按照权利要求4或5所述真空吸附装置,其特征在于:所述吸气孔内靠近上表面处放置有吸气孔孔塞。

7.按照权利要求1或2所述真空吸附装置,其特征在于:所述每条真空凹槽周边均设有环形密封槽,其中放置有密封材料。

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