[发明专利]图像分析系统及方法有效

专利信息
申请号: 201010568561.3 申请日: 2010-12-01
公开(公告)号: CN102486829A 公开(公告)日: 2012-06-06
发明(设计)人: 吴文伍;刘梦洲;付小军 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: G06K9/62 分类号: G06K9/62;G06T7/00;G01N21/956
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 图像 分析 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种图像分析系统,应用于计算装置,该计算装置与工业相机相连接,工业相机扫描待测电路板得到待测图,其特征在于,该系统包括:

信息读取模块,用于从存储器读取符合电路板设计规范的参考图及所述待测图;

特征点提取模块,用于利用数学算法提取参考图及待测图中的特征点及各特征点附加的特征信息,并根据特征信息确定参考图及待测图的特征点对;

矩阵构建模块,用于根据所述特征点对构建两个1*n矩阵,并根据该两个1*n矩阵计算得到映射矩阵;

信息读取模块,还用于读取参考图中各基准点的坐标;

匹配点确定模块,用于根据各基准点的坐标及映射矩阵确定各基准点在待测图中的对应点的坐标,并判断是否所有对应点均落入待测图中,若所有对应点均落入待测图中,则以各对应点为参考图中基准点在待测图中的匹配点,若有对应点落入待测图之外,则移动该对应点至待测图中,并将参考图中与该对应点匹配的基准点作与该对应点相同的位移操作,移动后得到的对应点为参考图中相应基准点在待测图中的匹配点;及

比较模块,用于根据基准点确定参考图的参考区域,根据匹配点确定待测图的匹配区域,并将匹配区域与参考区域进行比较,查找匹配区域中的差异点,以定位电路板上的设计不良位置。

2.如权利要求1所述的图像分析系统,其特征在于,所述特征点为特征值大于预设阀值的像素点,各特征点附加的特征信息包括该特征点的方向、尺度及特征向量。

3.如权利要求2所述的图像分析系统,其特征在于,所述特征点提取模块是根据特征向量间的欧式距离来确定参考图中各特征点在待测图中的对应特征点,参考图中的一个特征点与待测图中的一个对应特征点组成一个特征点对。

4.如权利要求1所述的图像分析系统,其特征在于,所述基准点为参考图中的特征点或除特征点外的像素点。

5.一种图像分析方法,该方法应用于计算装置,该计算装置与工业相机相连接,工业相机扫描待测电路板得到待测图,其特征在于,该方法包括:

读取所述待测图及符合电路板设计规范的参考图;

利用数学算法提取参考图及待测图中的特征点及各特征点附加的特征信息,并根据特征信息确定参考图及待测图的特征点对;

根据所述特征点对构建两个1*n矩阵,并根据该两个1*n矩阵计算得到映射矩阵;

读取参考图中各基准点的坐标;

根据各基准点的坐标及映射矩阵确定各基准点在待测图中的对应点的坐标;

判断是否所有对应点均落入待测图中,若所有对应点均落入待测图中,则以各对应点为参考图中基准点在待测图中的匹配点,若有对应点落入待测图之外,则移动该对应点至待测图中,并将参考图中与该对应点匹配的基准点作与该对应点相同的位移操作,移动后得到的对应点为参考图中相应基准点在待测图中的匹配点;及

根据基准点确定参考图中的参考区域,根据匹配点确定待测图中的匹配区域,并将匹配区域与参考区域进行比较,查找匹配区域中的差异点,以定位电路板上的设计不良位置。

6.如权利要求5所述的图像分析方法,其特征在于,所述特征点为特征值大于预设阀值的像素点,各特征点附加的特征信息包括该特征点的方向、尺度及特征向量。

7.如权利要求6所述的图像分析方法,其特征在于,所述根据特征信息确定参考图及待测图的特征点对包括:根据特征向量间的欧式距离来确定参考图中各特征点在待测图中的对应特征点,参考图中的一个特征点与待测图中的一个对应特征点组成一个特征点对。

8.如权利要求5所述的图像分析方法,其特征在于,所述基准点为参考图中的特征点或除特征点外的像素点。

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