[发明专利]氮化硅的回收方法

权利要求书

1.从涂覆有氮化硅的废弃的石英坩埚回收氮化硅的方法，该方法包括：

a)对置于惰性液体介质，优选水，更优选去离子水中的、涂覆有氮化硅的废弃的石英坩埚进行超声波处理，获得含有氮化硅粉末和碎硅渣，任选地还含有坩埚碎渣的惰性液体介质，和

b)对由步骤a)获得的含有氮化硅粉末和碎硅渣，任选地还含有坩埚碎渣的惰性液体介质进行物理纯化步骤以分离氮化硅粉末。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述超声波处理使用的超声波频率为1500-3000HZ，优选1600-2400HZ，更优选1800-2200HZ。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述超声波处理时间为20-80秒，优选30-60秒。

4.根据权利要求1-3之任一项所述的方法，其中所述的物理纯化步骤b)包括过滤。

5.根据权利要求1-4之任一项所述的方法，其中所述过滤使用的过滤器孔径为1.2-3.5微米，优选1.3-3.3，例如1.5-2.5微米，以获得作为滤液的含有氮化硅粉末的惰性液体介质。

6.根据权利要求1-5之任一项所述的方法，其中所述的过滤为真空抽滤，所述真空抽滤的真空度优选为100-10000Pa。

7.根据权利要求4-6之任一项所述的方法，其中所述的物理纯化步骤b)还包括对通过所述过滤分离得到的滤液进行离心分离，以将氮化硅粉末与惰性液体介质分离，或者所述的物理纯化步骤b)还包括对通过所述过滤分离得到的滤液进行一次或多次精密过滤，以将氮化硅粉末与惰性液体介质分离，精密过滤优选使用精密过滤压缩机进行。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述的精密过滤使用的过滤器孔径为1微米以下，优选0.4-1微米，更优选0.5-0.7微米。

9.根据权利要求7-8之任一项所述的方法，其中所述的精密过滤使用的过滤压力为0.5-1MPa。

10.根据权利要求1-9之任一项所述的方法，还包括在步骤a)和步骤b)后的干燥步骤c)，所述干燥步骤c)优选在50-200℃的温度下进行。

11.根据权利要求10所述的方法，其中在干燥步骤c)中，干燥通过所述过滤作为滤液得到的含有氮化硅粉末的惰性液体介质以去除惰性液体介质，或者干燥通过所述离心分离得到的氮化硅粉末，或者干燥通过所述精密过滤得到的氮化硅粉末。

12.根据权利要求1-11之任一项所述的回收方法，其中所述步骤a)在大于0℃至小于或等于50℃下，优选在15-35℃下，更优选在室温下进行。