[发明专利]粗金粉深度除杂技术有效

专利信息
申请号: 201010572750.8 申请日: 2010-12-04
公开(公告)号: CN102021340A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 陈大林;赵彦才;潘从明;李明;张燕;许银风 申请(专利权)人: 金川集团有限公司
主分类号: C22B3/46 分类号: C22B3/46;C22B11/00
代理公司: 甘肃省知识产权事务中心 62100 代理人: 刘继春
地址: 737103*** 国省代码: 甘肃;62
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 金粉 深度 杂技
【说明书】:

技术领域

发明涉及冶金领域中湿法冶金过程,特别涉及有效除去粗金粉氯化液中的大部分银和锑等杂质元素的粗金粉深度除杂技术。

背景技术

国内外多采用火法工艺处理铜阳极泥,我公司也于2000年将此工艺成功应用于生产,主要是由分金过程产出的粗金粉经电解产出黄金,原则工艺为铜阳极泥硫酸化焙烧—酸浸分铜—碱浸分碲—氯化分金—还原粗金粉—造液电解—电解金板—煮洗除杂,此黄金生产工艺过程冗长,对还原粗金粉中杂质元素含量的要求高,特别是电解金板中杂质元素银难以控制。由于近几年铜原料中杂质元素的大幅上升,使得处理铜阳极泥的焙浸工序所产粗金粉品质明显下降,主要为含银、铅、锑、铋等杂质元素含量增加,最终导致电解产出的黄金产品质量难以达标。为此,采用了一种新的湿法工艺代替电解法对粗金粉进行精炼原则工艺为粗金粉水溶液氯化—草酸还原—酸煮除杂,但由于粗金粉中银和锑的含量过高,还原出的金粉质量仍不能达到国标IC-Au99.99的要求,因此,寻找一种粗金粉深度除杂的新工艺已显得刻不容缓。

发明内容

本发明的目的就是要消除上述现有技术的不足和缺点,提供一种能能有效除去粗金粉氯化液中的大部分银和锑等杂质元素的粗金粉深度除杂技术。

为了达到上述目的,本发明提供了一种粗金粉深度除杂技术一种粗金粉深度除杂技术,将粗金粉投入氯化浸出釜中,液固比14-16:1(液体的体积与固体的质量的比值,其中液体体积单位为升,固体质量单位为千克),加入工业盐酸控制溶液酸度为3mol/L,温度为80~85℃后进行通氯浸出,时间10~14h,然后冷却放料过滤,将上述滤液升温煮沸,浓缩体积至原体积25%~37.5%,冷却后补入去离子水至原液体积,搅拌30~60min,静置2h后放料过滤,水解后浓缩—加入去离子水—搅拌—静置过滤如此反复操作进行水解除杂,经反复2~3遍水解处理后即可进行金还原,水解渣集中存放。

Sb、Bi为两性物质,在酸性溶液中不稳定,易水解生成沉淀。在水解过程中,加入去离子水,溶液中[H+]降低,pH值增加,溶液中的SbCl3、BiCl3发生水解,形成淡黄色的沉淀物:

SbCl3+H2O?SbOCl↓+2HCl

BiCl3+H2O?BiOCl↓+2HCl

氯化浸出时,大部分的Pb以不溶物形式进入不溶渣中与Au分离,但溶液中存在微量的Pb2+不稳定,会与水发生水解,形成氢氧化铅的沉淀物:

Pb2++2H2O?Pb(OH)2↓+2H+

同时,在加入去离子水后,溶液中的[Cl]与[AgCl2]降低,且前者降低幅度更大,使平衡向左边移动,氯化液中AgCl2转化为AgCl白色沉淀:

AgCl+ Cl?AgCl2

由于随温度升高,氯化银的溶解度增大,因此水解过程在常温下进行。

经过此工艺,有效降低了金还原前液中杂质含量,尤其是Ag、Sb、Pb、Bi的含量降低了95%左右。

本发明的有益效果:

.本发明提供一种对粗金粉氯化浸出液进行水解深度除杂的工艺,本发明对粗金粉中精炼工艺进行了深度净化除杂改进,粗金粉经水溶液氯化后,采用了水解除杂工艺,利用酸度与离子浓度变化,除去其中大量的Ag、Pb、Sb、Bi等杂质元素。

 .本发明可使粗金粉氯化液中的大部分杂质元素含量大大地降低,尤其银与锑降低95%以上;经过水解深度除杂后,氯化液中影响还原的杂质大量减少,有利于后续工序;氯化液再经过还原提纯,可直接产出符合国标IC-Au99.99的黄金产品。

具体实施方式

实施例1:

粗金粉投入氯化浸出釜中,控制液固比14:1,加入工业盐酸控制溶液酸度为3mol/L,体积为800L,温度为80℃后进行通氯浸出,时间12h,然后冷却放料过滤。将滤液转入水解釜中,升温煮沸,浓缩体积至200L,冷却,补入去离子水至原液体积800L,搅拌30min,静置2h后放料过滤,水解后液转入水解釜中浓缩—加入去离子水—搅拌—静置过滤如此反复3遍水解处理后进行金还原,水解渣集中存放,银、铅、锑、铋含量降低94.2%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于金川集团有限公司,未经金川集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010572750.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top